[实用新型]制作颅脑创伤模型的装置无效

专利信息
申请号: 200720124731.2 申请日: 2007-07-18
公开(公告)号: CN201070392Y 公开(公告)日: 2008-06-11
发明(设计)人: 邓均;粟永萍;周桃莉;艾国平;董世武 申请(专利权)人: 中国人民解放军第三军医大学
主分类号: A61B19/00 分类号: A61B19/00;A61B5/00
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 代理人: 赵荣之
地址: 400038重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 制作 颅脑 创伤 模型 装置
【权利要求书】:

1.一种制作颅脑创伤模型的装置,其特征在于:包括底座(1)、支架(2)、硬管(3)和重锤(4),所述支架(2)固定设置在底座(1)上,硬管(3)垂直于底座(1)水平面,固定设置在支架(2)上,硬管(3)下端与底座(1)上平面的距离大于3cm,重锤(4)直径小于硬管内径。

2.根据权利要求1所述的制作颅脑创伤模型的装置,其特征在于:所述底座(1)的上平面与硬管(3)下端相对的位置设置有软垫(5)。

3.根据权利要求1或2所述的制作颅脑创伤模型的装置,其特征在于:还包括头盔(6),头盔(6)内表面用牙托粉(7)塑形。

4.根据权利要求1或2所述的制作颅脑创伤模型的装置,其特征在于:所述支架(2)包括固定设置在底座(1)上的立柱(2a)和固定设置在立柱上的卡架(2b),卡架(2b)卡住硬管(3)。

5.根据权利要求3所述的制作颅脑创伤模型的装置,其特征在于:所述支架(2)包括固定设置在底座(1)上的立柱(2a)和固定设置在立柱上的卡架(2b),卡架(2b)卡住硬管(3)。

6.根据权利要求3所述的制作颅脑创伤模型的装置,其特征在于:所述头盔为直径6mm、高2mm的半圆球体。

7.根据权利要求1、2、5、6任一权利要求所述的制作颅脑创伤模型的装置,其特征在于:所述底座(1)为长方体。

8.根据权利要求3所述的制作颅脑创伤模型的装置,其特征在于:所述底座(1)为长方体。

9.根据权利要求4所述的制作颅脑创伤模型的装置,其特征在于:所述底座(1)为长方体。

10.根据权利要求7所述的制作颅脑创伤模型的装置,其特征在于:所述硬管(3)直径为25mm,重锤(4)质量为50g,硬管(3)下端与底座(1)上平面的距离为4cm。

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