[实用新型]光罩清洗设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于清洗光罩的技术领域，特别是涉及一种清洗效度快、且洁净度佳的光罩清洗方法及设备，详言之是一种利用湿润擦拭来清洁光罩表面的技术。

背景技术

按现有半导体制程中的微影制程，是将预先形成于光罩上的集成电路利用微影技术曝光于晶圆表面，因此为了改善晶圆微影制程的解析度，会利用相移式的微影制程，其是于光罩上添加部分相移层(Shifter Layer)，借此一相移层在曝光时所衍生的正反相干涉，可使曝光机投射在晶圆上的影像图案有较佳的解析度，而如图1所示，一般光罩10于对应影像图案区会设有一光罩护膜20(Pellicle)，以防止微粒子沾附在光罩10的图案区中，造成微影制程的缺陷。由于制程中，或因移载、或因摩擦、或因材料脱落等，会于制程环境中产生粉尘，且这些粉尘中的微粒子(Particle)会沾附于光罩10表面，甚至因制程中的水气与热气而于光罩10表面产生雾化的现象，因此目前光罩10于使用一段时间或次数后需要进行清洗，以去除光罩10表面的尘粉。

而目前的清洗方法主要是以流体状的清洗液配合驱动光罩10旋转而成，其是利用清洗过程中流体的牵引力造成微粒旋转，是微粒被移除的主要物理机制，但其除了会产生大量清洗后的废水外，更需增加废水处理的设备与成本，再者以大量清洗液进行清洗的动作，其因水份多、且湿度高，故其不易快速去除水渍、烘干，而容易在光罩10表面留下水痕，更甚者为了避免清洗液喷洗到前述的光罩护膜20，而影响到微影制程的解析度，因此需另外设置各种不同的防患措施，进一步增加设备的成本，且会增加光罩10的清洗时间。

关于光罩的清洗，近年来更发展出一种利用气体或流体所产生的震波来将粒子从光罩表面去除，这种清洗技术的设备成本极高，同时因其是令微粒受震波作用而扬起，但其真空设备不见得能有效的将微粒吸走，而造成微粒进一步污染其他设备与材料。

换言之，前述的清洗方法并无法有效的去除光罩10表面的微粒，同时存在有浪费清洗液与需另外处理废水的问题，而造成其清洗效率不佳等状况。

一或多数顶面擦拭装置，其设于光罩上方，顶面擦拭装置具有一面向光罩顶部表面的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且不滴水的湿润状擦拭布，该顶面擦拭装置可利用擦拭布擦拭清洗光罩顶部表面。

经由上述的说明，本实用新型通过前述技术手段的展现，可让本实用新型有效、且迅速的去除光罩护膜以外表面的微粒与雾化污渍等，以缩短光罩清洗时间，而不致污染光罩护膜或留下清洗水痕，有效的提升光罩清洗效率，并大幅提升光罩清洗后的洁净度。

借由上述技术方案，本实用新型光罩清洗设备至少具有下列优点：

根据本实用新型的设计，是利用擦拭手段直接去除光罩表面的微粒与雾化污渍，同一表面仅需一次擦拭动作，无需重复以清洗液冲洗，故清洗速度较现有者快。

根据本实用新型的设计，本实用新型可直接将微粒与雾化污渍直接擦拭清洗，且更可同步清洗光罩侧边的上、下边缘表面，故其清洗效率佳。

根据本实用新型的设计，本实用新型是以含浸的湿润状擦拭，无需使用大量的清洗液，故可大幅减少清洗剂的使用，避免增加废水处理的困扰，且可减少清洗后产生水痕的现象，进一步可降低清洗处理的成本。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。

附图说明

图1所绘示的是光罩的外观示意图。

图2是本实用新型光罩清洗设备的外观示意图。

图3是本实用新型光罩清洗设备的内部状态示意图，其显示本实用新型的构成及相对关系。

图4是本实用新型光罩清洗设备的清洗动作示意图，用以说明光罩旋转及清洗的位置。

图5是本实用新型的侧边擦拭装置端面示意图，用于揭示其未夹掣光罩上、下边缘表面的状态。

图6是本实用新型的侧边擦拭装置端面示意图，进一步揭示其夹掣光罩上、下边缘表面擦拭的状态。

图7是本实用新型的侧边擦拭装置的侧面示意图，用于揭示其连续擦拭光罩上、下边缘表面状态。

图8是本实用新型的顶面擦拭装置的侧面示意图，用于揭示其顶部表面连续擦拭状态。

图9是本实用新型光罩清洗设备另一实施例的外观示意图，用以说明其构成及相对关系。

图10是本实用新型光罩清洗设备另一实施例的前视平面示意图，进一步说明其清洗动作的状态。

10：光罩          11：上边缘表面