[实用新型]观察硅片样品断面的样品台无效
| 申请号： | 200720144307.4 | 申请日： | 2007-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN201122096Y | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 裘莺 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G01B11/24;G01B9/04;G01N13/10 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 观察 硅片 样品 断面 | ||
【权利要求书】：
1.一种观察硅片样品断面的样品台，包括底座和与底座相配合的放置样品的平台，其特征在于，放置样品的平台表面设有活动槽，每条活动槽设有调节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置。
2.根据权利要求1所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在于，活动槽将放置样品的平台表面分为多个区域，并以字母或者数字区分平台表面的不同区域。
3.根据权利要求1或2所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在于，放置样品的平台表面设有4条活动槽。
4.根据权利要求1或2所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在于，活动槽设于距离放置样品的平台表面边缘8mm处。
5.根据权利要求1或2所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在于，活动槽深度为0.2mm。
6.根据权利要求1或2所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在于，活动槽可以活动的宽度范围为0.2mm至1mm。
7.权利要求1所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在于，放置样品的平台长40mm，宽24mm，厚8mm。
8.权利要求1所述的观察硅片样品断面的样品台，其特征在于，样品台为金属材质。
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