[实用新型]气态氟化氢供应装置有效
| 申请号： | 200720144363.8 | 申请日： | 2007-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN201136894Y | 公开（公告）日： | 2008-10-22 |
| 发明（设计）人： | 朴松源;白杰;何有丰;唐兆云 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;H01L21/205;H01L21/365;B08B9/093 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李丽 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 气态 氟化氢 供应 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种气态氟化氢供应装置，包括，存放氟化氢的贮存腔室和用于关闭或开放所述贮存腔室的气体开关，所述氟化氢包含液态氟化氢和气态氟化氢；其特征在于：所述气态氟化氢供应装置还连接有用以加热所述贮存腔室的控温装置。
2.根据权利要求1所述的气态氟化氢供应装置，其特征在于：所述控温装置与所述气态氟化氢供应装置可拆卸连接。
3.根据权利要求1所述的气态氟化氢供应装置，其特征在于：所述贮存腔室开放时，所述控温装置加热所述贮存腔室。
4.根据权利要求1所述的气态氟化氢供应装置，其特征在于：所述控温装置为加热带。
5.根据权利要求4所述的气态氟化氢供应装置，其特征在于：所述加热带为FTC5S-35225M。
6.根据权利要求4所述的气态氟化氢供应装置，其特征在于：所述加热带数目为至少一个。
7.根据权利要求4或6所述的气态氟化氢供应装置，其特征在于：所述贮存腔室包含底壁及由所述底壁向上延伸以环绕所述底壁的侧壁，所述加热带环绕贮存所述液态氟化氢的侧壁。
8.根据权利要求7所述的气态氟化氢供应装置，其特征在于：所述加热带数目大于一个时，与所述气体管路相连的各所述加热带间距离相等。
9.根据权利要求1所述的气态氟化氢供应装置，其特征在于：所述贮存腔室内氟化氢的温度范围为30～50摄氏度。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
