[实用新型]一种处理挥发性有机物的低温等离子体装置无效
| 申请号： | 200720149297.3 | 申请日： | 2007-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN201033281Y | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 李坚;豆宝娟;梁文俊;竹涛;金毓峑 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | B01D53/76 | 分类号： | B01D53/76;H05H1/32 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张慧 |
| 地址： | 100022*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 处理 挥发性 有机物 低温 等离子体 装置 | ||
1.一种处理挥发性有机物的低温等离子体装置，其特征在于：主要包括有进气口(1)、渐扩器(2)、高压极板(4)、接地极板(7)和反应器壳体(10)，其中，进气口(1)通过渐扩器(2)与反应器壳体(10)固定连接；在反应器壳体(10)的内部、渐扩器(2)中心轴线的两侧各设置一块高压极板(4)，高压极板(4)通过绝缘卡槽(8)与反应器壳体(10)相连接，两块高压极板(4)和反应器壳体(10)围成的空间为气流缓冲室(3)，气流缓冲室(3)与渐扩器(2)相连通；高压极板(4)上均匀分布有用于产生等离子体的高压极喷嘴(5)，高压极板(4)与反应器壳体(10)之间设置有接地极板(7)，接地极板(7)通过卡槽(9)与反应器壳体(10)相连接，接地极板(7)与反应器壳体(10)之间留有用于气体通过的间隙；与接地极板(7)对应的反应器壳体(10)的两个侧面上均设置有出气口(12)。
2.根据权利要求1所述的一种处理挥发性有机物的低温等离子体装置，其特征在于：所述的高压极喷嘴(5)和接地极板(7)之间设置有介质阻挡层(6)。
3.根据权利要求2所述的一种处理挥发性有机物的低温等离子体装置，其特征在于：所述的介质阻挡层(6)为聚四氟乙烯板或云母板。
4.根据权利要求1所述的一种处理挥发性有机物的低温等离子体装置，其特征在于：所述的绝缘卡槽(8)为聚四氟乙烯卡槽。
5.根据权利要求1所述的一种处理挥发性有机物的低温等离子体装置，其特征在于：所述的卡槽(9)的个数大于2。
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