[实用新型]塑胶材料的氟化保护膜结构无效

专利信息
申请号: 200720157000.8 申请日: 2007-08-02
公开(公告)号: CN201089748Y 公开(公告)日: 2008-07-23
发明(设计)人: 许棋凯;邱登甲;张正杰 申请(专利权)人: 兆震实业股份有限公司
主分类号: C08J7/06 分类号: C08J7/06;C08L55/02;C08L69/00;C08L33/00
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 塑胶 材料 氟化 保护 膜结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种塑胶材料的氟化保护膜结构。

背景技术

现有的塑胶材料保护结构,主要是有无机保护膜结构与有机保护膜结构,有机保护膜结构如涂料所形成的保护膜,在紫外线照射下会变色、裂化,又有毛细孔使其防水与耐候性差,且静电高而易漏电导致高危险性。虽有将含钛、锆、锌、硅、钒、铝等金属的化合物加入树脂中,再涂布在金属表面形成抗腐蚀薄膜,其形成的无机保护膜的基材受限于金属材料,且成本高又影响金属原有光泽,为其美中不足的处。至于有以化学蒸镀(Chemical Vapor Deposition;CVD)与物理蒸镀(Physical Vapor Deposition)等真空蒸镀技术将基材镀上一层保护膜,其须在真空中进行镀膜加工,其生产设备与生产过程复杂且成本昂贵,而多应用在高导电性和高电磁屏蔽效率等场所,且颜色多为金属色或是无机材料原色,颜色无变化性,造成应用受限等等缺失。

于是,本实用新型设计人凭借在基材上涂布至少一层含有PU或UV树脂等有机树脂的有机膜,再在有机膜表面涂布有含有二氧化钛、二氧化硅或氧化铝等的纳米无机膜。凭借涂布无机保护膜在先行涂布的有机保护膜,虽可形成耐蚀、抗氧化、抗指纹、增加硬度、防静电、滤波、增加光泽性、表面平整度等效果的保护膜。但是其有机高分子膜处理塑胶或金属工件,其表面易产生易脏、易沾灰尘、静电高、耐化学品差、易污染(表面毛细孔大,易渗入异物或化学品)、指纹多、光泽差、表面接触角小等缺点。

再者,本实用新型设计人凭借在于前述有机膜表面涂布有纳米无机膜后再涂布一层含有氟化物的防污层,使工件(塑胶件、金属件)形成一含有氟化物保护膜,而得以涂布后的基材表面具有防污、不沾、抗静电、耐磨损、密着佳、无使用后光泽差异性等功效的增进。但是其使用有机膜为载体共涂布有含有纳米材料的无机膜层,其有机膜层经热烘干燥,会产生孔洞,因此须使用较厚的有机膜层,制造繁琐成本也居高不下等缺失。

由此可见,上述现有保护结构仍上存有诸多缺失,需要加以改良。

发明内容

本实用新型的主要目的是提供一种塑胶材料的氟化保护膜结构,以形成表面平整度的防污保护膜。

为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:

一种塑胶材料的氟化保护膜结构,其特征在于:包括:一塑胶基材;一改质层,是涂布在所述的塑胶基材表面,其为含有纳米级硅化合物的无机薄膜;一氟化保护层,是涂布在所述的改质层表面,而所述的氟化保护层则是含有氟化物的薄膜。

与现有技术相比较,采用上述技术方案的本实用新型具有的优点在于:凭借涂布氟化保护膜前先行涂布一改质层,以作为塑胶基材与氟化保护层间的介面,使无机保护层可紧密而牢固涂布在塑胶基材,则可使涂布后的塑胶基材的表面能量降低,而具有简化制程与防污等功效的增进的保护膜结构。

附图说明

图1为本实用新型的氟化保护膜结构示意图。

附图标记说明:1-塑胶基材;2-改质层;3-氟化保护层。

具体实施方式

本实用新型的塑胶材料的氟化保护膜结构,其主要技术内容适当揭示在以下所列举的较佳实施例中,并利用所述的较佳实施例将本实用新型的主要技术内容予以适当实施。

首先,请参阅图1所示本实用新型的一种材料无机膜防污保护结构较佳实施例,其是包括:

一塑胶基材1,所述的塑胶基材1可为ABS、ABS/PC、PC、酚醛树脂、压克力板等塑胶材料;

一改质层2,所述的改质层2是含有纳米级硅化合物的无机薄膜,所述的硅化合物是二氧化硅或硅氧烷,并涂布在上述塑胶基材1表面;

一氟化保护层3,所述的氟化保护层3是涂布在前述改质层2表面。

凭借上述组成的一种塑胶材料的氟化保护膜结构,先在塑胶基材1的表面先涂布一改质层2,再在改质层2表面再涂布一层含有氟化物保护膜的氟化保护层3,由于涂布无机保护膜前先行涂布一改质层2,以作为塑胶基材1与无机保护层间的介面,使氟化保护层3可紧密而牢固涂布在塑胶基材1上,而得使塑胶基材1的表面形成一含有氟化物保护膜,可使涂布后的塑胶基材1的表面能量降低,而具有简化制程与防污等功效的增进。

以上说明对本实用新型而言只是说明性的,而非限制性的,本领域普通技术人员理解,在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下,可作出许多修改、变化或等效,但都将落入本实用新型的权利要求可限定的范围之内。

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