[实用新型]一种抛光垫调节器无效
申请号: | 200720181549.0 | 申请日: | 2005-10-10 |
公开(公告)号: | CN201214208Y | 公开(公告)日: | 2009-04-01 |
发明(设计)人: | 文卡塔·R·巴拉伽纳;乔治·拉泽若;肯尼·金泰·尼格 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 赵 飞 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抛光 调节器 | ||
1.一种抛光垫调节器,其特征在于,包括:
(a)调节面,其包括至少一个切出入口沟道以在抵靠着抛光垫摩擦所述调节面时接收抛光浆液;
(b)从所述切出入口沟道接收所述抛光浆液的至少一个管道;和
(c)在基板的周边上的至少一个出口,用于排出所述接收到的抛光浆液。
2.如权利要求1所述的垫调节器,其特征在于,所述切出入口沟道包括以下特性中的至少之一:
(1)所述切出入口沟道从所述调节面的中心区域处的第一宽度逐渐变成所述调节面的所述周边区域处的第二宽度,所述第二宽度大于所述第一宽度;
(2)所述切出入口沟道的至少一部分从所述基板的所述中心到所述周边区域向外径向螺旋行进;
(3)所述切出入口沟道包括具有径向增大宽度的V形终点;
(4)所述切出入口沟道包括弯曲的逐渐变细的入口;以及
(5)所述切出入口沟道包括具有不变径向宽度的中部。
3.如权利要求1所述的垫调节器,其特征在于,所述研磨粒子包括金刚石粒子。
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