[发明专利]光记录介质有效
申请号: | 200780000142.6 | 申请日: | 2007-01-11 |
公开(公告)号: | CN101310336A | 公开(公告)日: | 2008-11-19 |
发明(设计)人: | 堀江通和;清野贤二郎;久保正枝 | 申请(专利权)人: | 三菱化学媒体股份有限公司 |
主分类号: | G11B7/254 | 分类号: | G11B7/254;G11B7/24;G11B7/244;G11B7/257 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁香兰;赵冬梅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 介质 | ||
1.一种光记录介质,该光记录介质的特征在于,其具有形成有引导槽的基板,在所述基板上依次具有以Ag为主成分的具有光反射性能的层、含有在未记录状态下对记录再生光波长具有光吸收性能的色素作为主成分的记录层、以及可以透过入射到所述记录层的记录再生光的覆盖层,其中,
在所述具有光反射性能的层和所述记录层之间设有中间层,
所述中间层含有选自由Ta、Nb、V、W、Mo、Cr以及Ti组成的组中的至少一种元素。
2.如权利要求1所述的光记录介质,其特征在于,所述中间层的膜厚为1nm~15nm。
3.如权利要求1所述的光记录介质,其特征在于,所述以Ag为主成分的具有光反射性能的层的膜厚为30nm~90nm。
4.如权利要求1~3任一项所述的光记录介质,其特征在于,以距离对所述记录再生光进行会聚而得到的记录再生光束入射的覆盖层的面为远端一侧的引导槽部作为记录槽部时,形成于所述记录槽部的讯坑部的反射光强度高于该记录槽部未记录时的反射光强度。
5.如权利要求4所述的光记录介质,其特征在于,所述记录槽部未记录时的记录层的膜厚为5nm以上且小于50nm。
6.如权利要求1~3任一项所述的光记录介质,其特征在于,所述记录再生光的波长λ为350nm~450nm。
7.如权利要求1~3任一项所述的光记录介质,其特征在于,所述记录层与所述覆盖层之间具有防止该记录层的材料与该覆盖层的材料相混合的界面层。
8.如权利要求7所述的光记录介质,其特征在于,所述界面层的厚度为1nm~50nm。
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