[发明专利]光掩膜、其制造方法及使用该光掩膜的图形形成方法

权利要求书

1.一种光掩膜，该光掩膜在对曝光光具有透光性的透射性基板上设有 用于形成一组矩形的抗蚀图形的掩膜图形，其特征在于：

在上述透射性基板上进一步具备：使上述曝光光部分地透射的半遮光 部、被上述半遮光部围绕并且对上述曝光光具有透光性的第一透光部、和 围绕上述掩膜图形并且对上述曝光光具有透光性的第二透光部；

上述掩膜图形具有与上述一组矩形的抗蚀图形对应的第一图形区域及 第二图形区域，第一图形区域和第二图形区域被配置为隔着上述半遮光部 的至少一部分和上述第一透光部互相相对；

上述半遮光部、上述第一透光部和上述第二透光部，使上述曝光光互 相以同相位透射。

2.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于：

上述半遮光部也被配置在上述第一图形区域及上述第二图形区域的至 少其中一个图形区域中的位于上述第一透光部一侧的角部周边。

3.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于：

上述第二透光部被配置为围绕由上述半遮光部、上述第一图形区域和 上述第二图形区域所构成的区域的周缘部。

4.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于：

上述第二透光部被配置为围绕上述第一图形区域及上述第二图形区域 的各自的周缘部，通过这样的配置使得上述第一图形区域及上述第二图形 区域分别和上述半遮光部分隔。

5.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于：

上述半遮光部被配置为围绕上述第一图形区域及上述第二图形区域的 各自的周缘部。

6.根据权利要求5所述的光掩膜，其特征在于：

位于上述第一图形区域及上述第二图形区域的各自角部周边的上述半 遮光部的宽度，大于位于该各角部以外的上述第一图形区域及上述第二图 形区域的各自周边的上述半遮光部的宽度。

7.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于：

上述半遮光部以上述透光部为基准以(-30+360×n)度以上并且 (30+360×n)度以下的相位差使上述曝光光透射，n为整数。

8.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于：

上述半遮光部对上述曝光光的透射率在5％以上并且在30％以下。

9.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于：

上述第一图形区域和上述第二图形区域的间隔为M×λ/NA以下，λ 为上述曝光光的波长，M和NA为曝光机的缩小投影光学系的缩小倍率及 数值孔径。

10.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于：

在与上述第一图形区域和上述第二图形区域的相对方向垂直的方向的 上述第一透光部尺寸，小于在该垂直方向的上述第一图形区域及上述第二 图形区域的各自的尺寸。

11.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于：

上述第一图形区域及上述第二图形区域分别为矩形。

12.根据权利要求11所述的光掩膜，其特征在于：

上述第一图形区域的短边和上述第二图形区域的短边相对。

13.根据权利要求12所述的光掩膜，其特征在于：

上述第一图形区域的短边尺寸和上述第二图形区域的短边尺寸相等。

14.根据权利要求12所述的光掩膜，其特征在于：

上述第一图形区域的短边尺寸小于上述第二图形区域的短边尺寸。

15.根据权利要求11所述的光掩膜，其特征在于：

上述第一图形区域的短边和上述第二图形区域的长边相对。

16.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于：

上述半遮光部由厚度30nm以下的金属薄膜构成。

17.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于：

上述第一图形区域及上述第二图形区域分别由实质上不使上述曝光光 透射的遮光部构成。