[发明专利]面发光激光阵列、光学扫描装置和成像装置有效
申请号: | 200780000885.3 | 申请日: | 2007-04-27 |
公开(公告)号: | CN101346858A | 公开(公告)日: | 2009-01-14 |
发明(设计)人: | 佐藤俊一;伊藤彰浩;庄子浩义;林义纪;市井大辅;原敬;藤井光美 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183;B41J2/44 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 王冉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 激光 阵列 光学 扫描 装置 成像 | ||
1.一种用于光学扫描装置的面发光激光阵列,包括设置成二维阵列形 式的多个面发光激光二极管元件,
其中,提供了彼此垂直相交的假想第一轴线和假想第二轴线,
从所述多个面发光激光二极管元件的各自中心起垂直于所述假想第一 轴线绘制的多条直线被形成为在所述假想第一轴线上具有大致相等的间隔,
提供沿第一方向排列的第一多个所述面发光激光二极管元件,
提供沿第二方向排列的第二多个所述面发光激光二极管元件,
所述第一方向和所述第二方向彼此相交,且所述假想第一轴线与所述第 一方向重合,而所述假想第二轴线与所述第一方向不重合且与所述第二方向 形成角度;
在所述第一多个所述面发光激光二极管元件中的所述面发光激光二极 管元件为基准值的间隔排列,
在所述第一多个所述面发光激光二极管元件中的面发光激光二极管元 件的数量小于在所述第二多个所述面发光激光二极管中的面发光激光二极 管元件的数量,
从所述第一多个所述面发光激光二极管元件中的所述面发光激光二极 管元件的各自中心起垂直于所述假想第一轴线绘制的线之间的间隔小于从 所述第二多个所述面发光激光二极管元件中的所述面发光激光二极管元件 的各自中心起垂直于所述假想第二轴线绘制的线的间隔,
其中,
所述假想第一轴线被设定为沿所述光学扫描装置的副扫描方向延伸,以 及
所述假想第二轴线被设定为沿所述光学扫描装置的主扫描方向延伸。
2.一种用于光学扫描装置的面发光激光阵列,包括设置成二维阵列形 式的多个面发光激光二极管元件,
提供了彼此垂直相交的假想第一轴线和假想第二轴线,
其中,从所述多个面发光激光二极管元件的各自中心起垂直于所述假想 第一轴线绘制的多条直线被形成为在所述假想第一轴线上具有大致相等的 间隔,
提供沿第一方向排列的第一多个所述面发光激光二极管元件,
提供沿第二方向排列的第二多个所述面发光激光二极管元件,
所述第一方向和所述第二方向彼此相交,且所述假想第一轴线与所述第 一方向重合,而所述假想第二轴线与所述第一方向不重合且与所述第二方向 形成角度;
在所述第一多个所述面发光激光二极管元件中的面发光激光二极管元 件的数量小于在所述第二多个所述面发光激光二极管元件中的面发光激光 二极管元件的数量,
从所述第一多个所述面发光激光二极管元件的所述面发光激光二极管 元件的各自中心起垂直于所述假想第一轴线绘制的线的间隔小于从所述第 二多个所述面发光激光二极管元件的所述面发光激光二极管元件的各自中 心起垂直于所述假想第二轴线绘制的线的间隔,
其中,
所述假想第一轴线被设定为沿所述光学扫描装置的副扫描方向延伸,以 及
所述假想第二轴线被设定为沿所述光学扫描装置的主扫描方向延伸。
3.根据权利要求2所述的面发光激光阵列,其中,沿所述第二方向排 列的所述面发光激光二极管元件的数量依据在所述第一方向的位置变化,以 及沿所述第一方向排列的所述面发光激光二极管元件的数量依据在所述第 二方向的位置变化。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780000885.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。