[发明专利]硅单晶提拉装置有效
申请号: | 200780001250.5 | 申请日: | 2007-05-30 |
公开(公告)号: | CN101400834A | 公开(公告)日: | 2009-04-01 |
发明(设计)人: | 古川纯 | 申请(专利权)人: | 胜高股份有限公司 |
主分类号: | C30B29/06 | 分类号: | C30B29/06;C30B15/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 熊玉兰;孙秀武 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 硅单晶提拉 装置 | ||
1.硅单晶提拉装置,该硅单晶提拉装置具有:存放硅熔融液的 坩埚、将上述坩埚加热的加热器、使上述坩埚旋转和/或升降的坩埚驱 动装置、容纳上述坩埚和加热器的容器、设于上述容器的外侧并对该 容器外加磁场的磁场外加装置;其特征在于:
上述磁场外加装置是将至少两个磁体线圈沿着箱的圆弧变形,以 相对的状态组装到环状的箱内形成的水平磁场磁体,沿上述容器的外 周面形成大致环状,包围上述容器,可形成相对于上述坩埚的中心轴 大致呈同心圆状的等磁线。
2.权利要求1的硅单晶提拉装置,其中,上述磁场外加装置沿 上述容器的外周面形成,可以外加磁场,由存放在上述坩埚内的硅熔 融液的熔融液面向上述坩埚的底部使磁场强度递增、或者使磁场强度 递减。
3.权利要求2的硅单晶提拉装置,其中,磁场强度由存放在上 述坩埚内的硅熔融液的熔融液面向上述坩埚的底部递增或递减时,磁 场强度的变动范围设定为:通过上述磁场外加装置外加到上述容器内 的磁场的最强强度的0.6倍-0.9倍的范围。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于胜高股份有限公司,未经胜高股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780001250.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。