[发明专利]硅单晶提拉装置有效

专利信息
申请号: 200780001250.5 申请日: 2007-05-30
公开(公告)号: CN101400834A 公开(公告)日: 2009-04-01
发明(设计)人: 古川纯 申请(专利权)人: 胜高股份有限公司
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C30B15/20
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 熊玉兰;孙秀武
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 硅单晶提拉 装置
【权利要求书】:

1.硅单晶提拉装置,该硅单晶提拉装置具有:存放硅熔融液的 坩埚、将上述坩埚加热的加热器、使上述坩埚旋转和/或升降的坩埚驱 动装置、容纳上述坩埚和加热器的容器、设于上述容器的外侧并对该 容器外加磁场的磁场外加装置;其特征在于:

上述磁场外加装置是将至少两个磁体线圈沿着箱的圆弧变形,以 相对的状态组装到环状的箱内形成的水平磁场磁体,沿上述容器的外 周面形成大致环状,包围上述容器,可形成相对于上述坩埚的中心轴 大致呈同心圆状的等磁线。

2.权利要求1的硅单晶提拉装置,其中,上述磁场外加装置沿 上述容器的外周面形成,可以外加磁场,由存放在上述坩埚内的硅熔 融液的熔融液面向上述坩埚的底部使磁场强度递增、或者使磁场强度 递减。

3.权利要求2的硅单晶提拉装置,其中,磁场强度由存放在上 述坩埚内的硅熔融液的熔融液面向上述坩埚的底部递增或递减时,磁 场强度的变动范围设定为:通过上述磁场外加装置外加到上述容器内 的磁场的最强强度的0.6倍-0.9倍的范围。

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