[发明专利]电极及真空处理装置

权利要求书

1.一种电极部，其特征在于，具有：

多个电极，其沿着被处理基板的面隔着规定间隔并排延伸；

台座，其支承该多个电极；

多个缓冲室，其是在该多个电极之间沿着所述电极延伸且由所述多个 电极和所述台座包围的空间；

多个第一喷出口，其沿着所述电极延伸的方向设置在所述台座，向所 述缓冲室内供给反应气体；

排出部，其设置在相对于所述缓冲室夹着所述电极而邻接的位置，将 所述反应气体从所述被处理基板和所述电极之间排出；

第二喷出口，其形成为在所述电极延伸的方向延伸的狭缝状，从所述 缓冲室朝向所述被处理基板供给所述反应气体，

所述排出部的宽度和所述第二喷出口的宽度为等离子体鞘层长度的2 倍左右。

2.根据权利要求1所述的电极部，其特征在于，

在所述多个电极的与所述被处理基板相对的端部设置有折弯部，所述 折弯部沿着所述被处理基板的面延伸。

3.根据权利要求1或2所述的电极部，其特征在于，

从所述第一喷出口喷出的所述反应气体的喷出方向是与朝向所述第 二喷出口的方向不同的方向。

4.根据权利要求1或2所述的电极部，其特征在于，

设置有遮蔽部，所述遮蔽部遮蔽从所述第一喷出口喷出的所述反应气 体的流动。

5.一种真空处理装置，其特征在于，具有：

容器，其在内部收容被处理基板；

根据权利要求1或2所述的电极部。