[发明专利]包含阳离子合成共聚物和去污表面活性剂的个人护理组合物无效

专利信息
申请号: 200780002148.7 申请日: 2007-01-09
公开(公告)号: CN101365419A 公开(公告)日: 2009-02-11
发明(设计)人: 马乔里·M·佩弗利;马克·A·布朗;詹姆斯·A·斯托迪格尔;张君济 申请(专利权)人: 宝洁公司
主分类号: A61K8/81 分类号: A61K8/81;A61Q5/02;A61Q5/12
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陈桉;封新琴
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 包含 阳离子 合成 共聚物 去污 表面活性剂 个人 护理 组合
【说明书】:

发明领域

本发明涉及具有优良起泡和调理性能的个人护理组合物,其包含精选的合成共聚物。

发明背景

包含多种去污表面活性剂和毛发调理剂组合的调理个人护理组合物是已知的。这些个人护理组合物通常包含阴离子去污表面活性剂与调理剂(如硅氧烷、烃油、脂肪族酯或它们的组合)的组合。作为一种可从单一毛发护理产品中方便地获得所有毛发调理和毛发清洁性能的方法,这些个人护理组合物在消费者中已变得越来越普及。

然而,许多调理个人护理组合物在应用过程中未能在毛发或皮肤上提供足够的调理剂沉积。如果沉积是可能的,唯一的可能是制剂具有相对低含量的阴离子表面活性剂。如果没有上述沉积,则大部分调理剂将在应用过程中被洗去,从而提供极少的调理有益效果或不提供任何调理有益效果。如果在毛发或皮肤上没有足够的调理剂沉积,则在个人护理组合物中可能需要相对高含量的调理剂以提供足够的毛发或皮肤调理性能。然而,如此高含量的调理剂会增加原料的成本、降低起泡性能并且呈现产品稳定性问题。此外,为形成凝聚层的总阴离子表面活性剂的极限可限制化学式的泡沫电位,或导致对于较高含量的实现优良泡沫所需的更昂贵的两性表面活性剂的需要。

一种提高毛发调理剂在毛发上的沉积的已知方法涉及使用某些阳离子沉积聚合物。这些聚合物可以是合成的,但通常大多数是已用阳离子取代基改性的天然纤维质或瓜耳胶聚合物。

用水稀释所述个人护理组合物以形成凝聚层对于提高多种调理活性物质的沉积是重要的,尤其是对于具有小液滴尺寸(即≤2微米)的那些。通常,在所述个人护理组合物使用期间发生稀释。例如,当使用者用个人护理组合物润湿头发时,所述产品自动被水稀释。为形成凝聚层,包含典型的阳离子聚合物(如已用阳离子取代基改性的天然纤维质或瓜耳胶聚合物)的个人护理组合物显著地趋于限制总阴离子浓度以在稀释后达成足够的凝聚层含量。例如,在硫酸化的阴离子表面活性剂中限制硫酸根的总含量将有助于凝聚层的形成,但将限制能用特定个人护理清洁组合物实现的泡沫体积。因此,对于低成本、高起泡、凝聚层形成组合物,希望使用能与较高含量阴离子表面活性剂形成凝聚层的阳离子聚合物。

因此,仍然需要能提供显著调理和起泡性能的个人护理组合物。

现已发现,精选的合成阳离子聚合物能够提高调理性能(尤其是湿发调理)并且能够改善分散在毛发或皮肤上的毛发调理剂的沉积。通过稀释形成凝聚层,这些精选的聚合物对改善分散在毛发和皮肤上的毛发调理剂的沉积尤其有效。在一个实施例中,在个人护理组合物中配制与阴离子去污表面活性剂的特定含量的组合时,凝聚层形成被优化。

发明概述

本发明通过提供个人护理组合物满足了上述需要,所述个人护理组合物包含:

a)具有净正电荷的随机合成共聚物,基于所述共聚物的单体单元的总数量;

i.)下式的非离子单体单元:

其中R为H或C1-4烷基;并且R1和R2独立地选自由下列组成的组:H、C1-4烷基、CH2OCH3、CH2OCH2CH(CH3)2、和苯基,或一起为C3-6环烷基;和

ii.)具有两个或更多个下式的正电荷的阳离子单体单元:

其中k=1,v、v′和v"各自独立地为1至6的整数,w为零或1至10的整数,并且X-为阴离子;和

b)去污表面活性剂;和

c)含水载体。

一个实施例包含具有优化的乙氧基化物含量和阴离子含量的阴离子表面活性剂体系。

对于本领域的技术人员来说,通过阅读本说明书的公开内容,本发明的这些和其它特征、方面和优点将变得显而易见。

发明详述

虽然本说明书以特别指出并清楚地要求保护本发明的权利要求书作出结论,但据信通过以下说明可更好地理解本发明。

本发明的个人护理组合物包含随机合成共聚物、去污表面活性剂和含水载体。下文详述了这些基本组分中的每一个以及优选或任选的组分。

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