[发明专利]蜡的氢化处理方法、以及燃料基材和润滑油基材的制造方法有效
申请号: | 200780003022.1 | 申请日: | 2007-01-11 |
公开(公告)号: | CN101370915A | 公开(公告)日: | 2009-02-18 |
发明(设计)人: | 关浩幸;东正浩 | 申请(专利权)人: | 新日本石油株式会社 |
主分类号: | C10G65/12 | 分类号: | C10G65/12;C10G45/60;C10G45/62;C10G47/16;C10G47/18 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈昕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 氢化 处理 方法 以及 燃料 基材 润滑油 制造 | ||
技术领域
本发明涉及蜡的氢化处理方法、以及燃料基材和润滑油基 材的制造方法。
背景技术
近年来,作为对环境友好的清洁液体燃料,对硫分和芳香 烃的含量低的液体燃料的期待越来越高。作为这种清洁液体燃料的制造 方法之一,可举出以氢和一氧化碳为原料的费-托(FT)合成法。根据 FT合成法,在可以制造富含烷烃、且不含硫分的液体燃料基材的同时, 也可以制造蜡(FT蜡)。该FT蜡通过氢化裂解转化为中间馏分,另一 方面,未裂解蜡馏分通过再循环转化为中间馏分,或通过MEK脱蜡而除 去正构烷烃,转化为高性能润滑油基材。
在通过FT蜡的氢化裂解制造中间馏分时,期待高收率, 将该中间馏分用作燃料基材时,作为中间馏分,优选正构烷烃含量低、 而异构烷烃含量高的馏分。例如在将中间馏分用于轻油时,正构烷烃含 量高的话,低温流动性差,最差的情况,作为商品的使用将会受到限制。
另外,在由未裂解蜡馏分获得润滑油基材时,未裂解蜡馏 分中正构烷烃含量低者,因为润滑油基材的收率高,且MEK脱蜡的运转 效率高,所以优选。
予以说明,将蜡氢化裂解制造燃料基材的技术至今仍在进 行研究,例如以FT蜡为原料的氢化裂解方法如下述专利文献1~3记载。 专利文献1:国际公开第2004/028688号小册子 专利文献2:特开2004-255241号公报 专利文献3:特开2004-255242号公报
发明内容
发明要解决的课题
然而,在上述专利文献1~3记载的蜡的氢化裂解方法中, 难以在高收率地制造正构烷烃含量充分降低的中间馏分的同时,降低未 裂解蜡馏分中的正构烷烃含量。另外,关于可同时获得正构烷烃含量低 的中间馏分和正构烷烃含量低的未裂解蜡馏分的氢化处理方法的研究 相当于尚不存在。其理由认为是因为以中间馏分为目的的氢化裂解和以 润滑油基材为目的的氢化异构化具有不同的最佳反应条件。即,为了提 高中间馏分的收率,虽然优选可抑制生成的中间馏分的轻质化的温和反 应条件,但在这种反应条件下却难以进行未裂解蜡馏分的异构化,难以 降低正构烷烃的含量。另一方面,当为了使未裂解蜡馏分中的正构烷烃 有效地转化为异构烷烃,而采用严酷的反应条件时,生成的中间馏分容 易发生过度裂解,结果使中间馏分的收率减少。
综上,期望在一定反应条件下,可以同时获得正构烷烃含 量低的中间馏分和正构烷烃含量低的未裂解蜡馏分的蜡的氢化处理方 法。
本发明正是鉴于上述现有技术中存在的课题而完成的,其 目的在于提供一种蜡的氢化处理方法、以及燃料基材和润滑油基材的制 造方法,上述方法的特征在于,在一定反应条件下,对蜡进行氢化处理, 能够在高收率地获得正构烷烃含量充分降低的中间馏分的同时,获得正 构烷烃含量充分降低的未裂解蜡馏分。
解决课题的手段
为达成上述目的,本发明人提供了一种蜡的氢化处理方法, 其特征在于,在氢气氛下,在液时空速0.4~4.0h-1的条件下,将蜡与 含有超稳定Y型沸石和无定形固体酸的第1催化剂接触,然后,再与基 本上不含超稳定Y型沸石而含有固体酸的第2催化剂接触,由此来进行 上述蜡的氢化处理。
在此,第2催化剂基本上不含超稳定Y型沸石是指,不含 超稳定Y型沸石,或即使含有也仅为不至影响蜡的氢化处理的程度的量。 更具体地说,第2催化剂中的超稳定Y型沸石的含量优选为0.02质量 %以下、更优选为0.005质量%以下、最优选为0。
根据所述蜡的氢化处理方法,首先通过将蜡与上述第1催 化剂接触,可以充分进行蜡的裂解,然后通过将蜡与上述第2催化剂接 触,可以在抑制蜡的过度裂解的同时,充分进行未裂解蜡的异构化。然 后,根据本发明的蜡的氢化处理方法,可在一定反应条件下进行利用第 1催化剂和第2催化剂的氢化处理,能够在高收率地获得正构烷烃含量 充分降低的中间馏分的同时,获得正构烷烃含量充分降低的未裂解蜡馏 分。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新日本石油株式会社,未经新日本石油株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780003022.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:无人直升机机载空中频谱监测系统
- 下一篇:一种湿法冶金除多晶硅中硼的方法