[发明专利]含有-SO3H基的含氟聚合物的制造方法和含有-SO3H基的含氟聚合物有效

专利信息
申请号: 200780004237.5 申请日: 2007-02-05
公开(公告)号: CN101379095A 公开(公告)日: 2009-03-04
发明(设计)人: 伊野忠;井坂忠晴;近藤昌宏;池田正纪;植松信之;古贺健裕 申请(专利权)人: 大金工业株式会社;旭化成化学株式会社
主分类号: C08F8/18 分类号: C08F8/18;C08F214/18;C08J5/22;H01B1/06;H01M8/02;H01M8/10
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 丁香兰;赵冬梅
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 含有 so sub 聚合物 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种含有-SO3H基的含氟聚合物的制造方法,其特征在于,该方法包括按照叙述顺序对具有包含-SO2X基的单体单元的待处理含氟聚合物进行至少下述工序A、工序B和工序C的操作,所述-SO2X基中,X表示F或Cl;

A:使卤化剂发挥作用的工序;

B:使分解处理剂发挥作用的工序;

C:使氟化剂发挥作用的工序;

所述工序A中,所述卤化剂为选自由F2、Cl2、Br2、NF3、PCl3、PCl5、SF4、SCl2、SCl4、ClF、ClF3、BrF3、IF5、POCl3、SOCl2和R16R17NSF3组成的组中的至少一种,其中,R16和R17相同或不同,表示碳原子数为1~3的烷基,并且使卤化剂在0℃以上低于150℃的温度发挥作用;

所述工序B中,所述分解处理剂为水,并且所述工序B在0~180℃的温度进行;

所述工序C中,所述氟化剂为由选自由F2、NF3、PF5、SF4、IF5、K3NiF7、ClF和ClF3组成的组中的至少一种氟源构成的氟化剂,并且使氟化剂在0℃以上低于150℃的温度发挥作用。

2.如权利要求1所述的含有-SO3H基的含氟聚合物的制造方法,其特征在于,待处理含氟聚合物具有不稳定末端基团。

3.如权利要求2所述的含有-SO3H基的含氟聚合物的制造方法,其特征在于,工序A为通过使卤化剂发挥作用而将不稳定末端基团转换为易分解性末端基团的工序A1,工序B为通过使分解处理剂发挥作用而将所述易分解性末端基团转换为-CFTCO2Z的工序B1,工序C为通过使氟化剂发挥作用而将所述-CFTCO2Z转换为-CF2T的工序C1;

其中,T表示F、碳原子数为1~10的全氟烷基或碳原子数为2~15的全氟烷氧基,Z表示H、NR1R2R3R4或碱金属元素;R1、R2、R3和R4相同或不同,表示H或碳原子数为1~4的烷基;所述全氟烷基和全氟烷氧基可以分别含有醚性氧(-O-)和/或-SO2X基;X表示F或Cl。

4.如权利要求3所述的含有-SO3H基的含氟聚合物的制造方法,其特征在于,易分解性末端基团为选自由-CFTCOX1和-CFTCO2Rx组成的组中的至少一种;

其中,T表示F、碳原子数为1~10的全氟烷基或碳原子数为2~15的全氟烷氧基,所述全氟烷基和全氟烷氧基可以分别含有醚性氧(-O-)和/或-SO2X基;X1表示F或Cl;Rx表示卤化烷基。

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