[发明专利]有机硅树脂膜,其制备方法和纳米材料填充的有机硅组合物无效
申请号: | 200780004343.3 | 申请日: | 2007-01-10 |
公开(公告)号: | CN101379153A | 公开(公告)日: | 2009-03-04 |
发明(设计)人: | M·菲舍尔;朱弼忠 | 申请(专利权)人: | 陶氏康宁公司 |
主分类号: | C09D183/04 | 分类号: | C09D183/04;C08K7/06;C07F17/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 张钦 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 硅树脂 制备 方法 纳米 材料 填充 有机硅 组合 | ||
1.一种纳米材料填充的有机硅组合物,其包含:
含(A)通式为(R1R22SiO1/2)w(R22SiO2/2)x(R1SiO3/2)y(Si04/2)z(I)的有机 硅树脂,其中R1是C1-C10烃基或C1-C10卤素取代的烃基,二者均不含脂 族不饱和键,R2是R1或链烯基,w为0-0.8,x为0-0.6,y为0-0.99, z为0-0.35,w+x+y+z=1,y+z/(w+x+y+z)为0.2-0.99,和w+x/(w+x+y+z) 为0.01-0.8,条件是所述有机硅树脂每一分子平均具有至少两个与硅 键合的链烯基;或(A′)通式为(R1R52SiO1/2)w(R52SiO2/2)x(R5SiO3/2)y(SiO4/2)z(III)的有机硅树脂,其中R1是C1-C10烃基或C1-C10卤素取代 的烃基,二者均不含脂族不饱和键,R5是R1或-H,w为0-0.8,x为 0-0.6,y为0-0.99,z为0-0.35,w+x+y+z=1,y+z/(w+x+y+z)为 0.2-0.99,和w+x/(w+x+y+z)为0.01-0.8,条件是所述有机硅树脂每 一分子平均具有至少两个与硅键合的氢原子;和光活化的氢化硅烷化 催化剂的可氢化硅烷化固化的有机硅组合物,和
碳纳米材料。
2.权利要求1的纳米材料填充的有机硅组合物,其中可氢化硅烷 化固化的有机硅组合物包含:(A)通式为 (R1R22SiO1/2)w(R22SiO2/2)x(R1SiO3/2)y(SiO4/2)z(I)的有机硅树脂;(B)每一 分子平均具有至少两个与硅键合的氢原子的有机基硅化合物,其用量 足以固化所述有机硅树脂(A);和(C)催化量的光活化的氢化硅烷化催 化剂。
3.权利要求1的纳米材料填充的有机硅组合物,其中可氢化硅烷 化固化的有机硅组合物包含:(A′)通式为 (R1R52SiO1/2)w(R52SiO2/2)x(R5SiO3/2)y(SiO4/2)z(III)的有机硅树脂;(B′) 每一分子平均具有至少两个与硅键合的链烯基的有机基硅化合物,其 用量足以固化所述有机硅树脂(A′);和(C)催化量的光活化的氢化硅烷 化催化剂。
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C09D 涂料组合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充浆料;化学涂料或油墨的去除剂;油墨;改正液;木材着色剂;用于着色或印刷的浆料或固体;原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物;基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
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C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个,但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接