[发明专利]辐射敏感性组合物和可成像材料

权利要求书

1.辐射敏感性组合物，包含:

可自由基聚合的组分；

引发剂组合物，该引发剂组合物在暴露于成像辐射下时能够产生足以引发所述可自由基聚合的组分的聚合的自由基，

敏化染料，和

聚合物粘结剂，其包括聚合物主链并具有与该聚合物主链连接的由以下结构(I)表示的咔唑衍生物:

其中Y是直接键或连接基，R¹-R⁸独立地是氢，或烷基、烯基、芳基、卤素、氰基、烷氧基、酰基、酰氧基或羧酸酯基，或任何相邻的R¹至R⁸基团可以一同形成碳环或杂环基团或稠合芳族环。

2.权利要求1的组合物，其中Y是直接键，R¹-R⁸独立地是氢或含1-8个碳原子的烷基或卤素基团。

3.权利要求2的组合物，其中R¹-R⁸中的每一个是氢。

4.权利要求1的组合物，其中所述敏化染料具有650-1500nm的λ_max。

5.权利要求1的组合物，其中所述敏化染料具有150-650nm的λ_max。

6.权利要求5的组合物，其中所述敏化染料由结构G-(Ar₁)₃或Ar₁-G-Ar₂表示，其中Ar₁和Ar₂是相同或不同的取代或未取代的碳环芳基，G是呋喃、噁唑或噁二唑环，或Ar₂也可以亚芳基-G-Ar₁或亚芳基-G-Ar₂基。

7.权利要求6的组合物，其中所述敏化染料具有结构G-(Ar₁)₃，其中所述Ar₁中的每一个被伯、仲或叔胺取代。

8.权利要求1的组合物，其中所述可自由基聚合的组分包含烯属不饱和可聚合基团或可交联烯属不饱和基团。

9.权利要求1的组合物，其中所述引发剂组合物包括三嗪化合物、过氧化物、2，4，5-三芳基咪唑基二聚物、鎓盐、肟醚或酯、N-苯基甘氨酸或其衍生物、苯胺基双乙酸或其衍生物、硫醇化合物或这些化合物中两种或多种的结合物。

10.权利要求1的组合物，其中所述引发剂组合物包括有机硼盐、碘鎓、锍、s-三嗪或这些化合物中两种或多种的结合物。

11.权利要求1的组合物，其中所述引发剂组合物以0.5-30％的量存在，所述可自由基聚合的组分以10-70％的量存在，所述敏化剂以1-20％的量存在，所述聚合物粘结剂以10-90％的量存在，所有百分率基于组合物总固体计。

12.权利要求1的组合物，其中所述聚合物粘结剂具有1,000-1,000,000的数均分子量和5-400mg KOH/g的酸值，并且由以下结构(II)表示:

其中A表示包含由结构(I)表示的咔唑衍生物的重复单元，B表示衍生自不包含咔唑衍生物的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，x为0.1-99.9mol％，y为0.1-99.9mol％，基于总重复单元计。

13.权利要求12的组合物，其中B表示衍生自一种或多种(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯酸、苯乙烯属单体、N-取代的马来酰亚胺、乙酸乙烯酯、马来酸酐或甲基丙烯酸2-羟乙酯的重复单元，x为5-50mol％，y为50-95mol％，和所述聚合物粘结剂具有5,000-100,000的数均分子量和10-200mg KOH/g的酸值。