[发明专利]扫描型曝光装置、微元件的制造方法、光掩模、投影光学装置以及光掩模的制造方法

权利要求书

1.一种扫描型曝光装置，一边使第1物体与第2物体在第1方向上移 动，一边将上述第1物体的图案转印曝光在上述第2物体上，上述扫描型曝 光装置的特征在于包括：第1投影光学系统，将上述第1物体上的视场内的 该图案的放大像形成于上述第2物体上的像场内；

第2投影光学系统，相对于该第1投影光学系统，在该第1方向、及与 该第1方向呈正交的第2方向设置间隔而配置，将该第1物体上的视场内 的该图案的放大像形成于该第2物体上的像场内，当将上述第1投影光学 系统及上述第2投影光学系统的上述视场的中心彼此在上述第1方向上的 间隔设为Dm，将上述第1投影光学系统及上述第2投影光学系统的上述像场 的中心彼此在上述第1方向的间隔设为Dp，且将上述第1投影光学系统及上 述第2投影光学系统的投影倍率设为β时，满足Dp＜Dm×|β|，其中，| β|＞1，且

其中该图案包括对应于该第1投影光学系统而配置的第1行图案部、 对应于该第2投影光学系统而配置且相对于该第1行图案部在该第1方向 上错开规定量而配置的第2行图案部，且

所述规定量等于(Dm×|β|-Dp)÷|β|。

2.如权利要求1所述的扫描型曝光装置，其特征在于其中所述的第1 投影光学系统及上述第2投影光学系统由反射折射光学系统所构成，

上述反射折射光学系统包括：

第1凹面反射镜，其配置于上述第1物体与上述第2物体之间的 光路中；

第1光路偏向面，其配置于上述第1物体与上述第1凹面反射镜 之间的光路中，且使光路偏向；

第1主透镜群，其配置于上述第1光路偏向面与上述第1凹面反 射镜之间的光路中；以及

第2光路偏向面，其配置于上述第1主透镜群与上述第2物体之 间的光路中，且使光路偏向。

3.如权利要求1所述的扫描型曝光装置，其特征在于其中，藉由上述 第1投影光学系统所投影的上述放大像而形成于上述第2物体上的第1图 案转印区域、与藉由上述第2投影光学系统所投影的上述放大像而形成于 上述第2物体上的第2图案转印区域，在横切上述第1方向的方向上部分 重叠。

4.如权利要求1所述的扫描型曝光装置，其特征在于其中所述的第1 投影光学系统及上述第2投影光学系统包括光学特性调整机构。

5.如权利要求4所述的扫描型曝光装置，其特征在于其中所述的第1 投影光学系统与上述第2投影光学系统包括：第1成像光学系统，其形成 上述第1物体的中间像；以及第2成像光学系统，使上述中间像与上述第2 物体光学共轭；且

上述光学特性调整机构设置在上述第1成像光学系统的光路内。

6.如权利要求2所述的扫描型曝光装置，其特征在于其中上述第1投 影光学系统与上述第2投影光学系统包括与上述反射折射光学系统不同的 第2反射折射光学系统，

该第2反射折射光学系统的投影倍率为1，且包括：第2凹面反射镜， 其配置于上述第1物体与上述第2物体之间的光路中；第3光路偏向面， 其配置于上述第1物体与上述第2凹面反射镜之间的光路中，使光路偏向； 第2主透镜群，其配置于上述第3光路偏向面与上述第2凹面反射镜之间 的光路中；以及第4光路偏向面，其配置于上述第2主透镜群与上述第2 物体之间的光路中，使光路偏向。

7.如权利要求1所述的扫描型曝光装置，其特征在于其中所述的第2物 体是外径大于500mm的感光基板。

8.一种微元件的制造方法，其特征在于包括：

曝光步骤，使用权利要求1项至第7项中任一项所述的扫描型曝光装 置，将光掩模图案曝光至感光基板上；以及

显影步骤，使通过上述曝光步骤所曝光的上述感光基板显影。