[发明专利]用于气体分离的膜结构

权利要求书

1.一种用于气体分离的膜结构(1)的制造方法，其中，在一多孔的支承 层(2)的膜侧(M)构成薄的聚合物膜(3)，该聚合物膜可透过气体(G)但不能渗透 过液体(F)，以及所述聚合物膜与所述支承层(2)的平侧或表面间接或直接面 状连接，其中，为构成所述聚合物膜(3)，所述支承层(2)浸渍或浸入一种聚 合物溶液，其中，所述聚合物溶液基本上只从膜侧(M)出发干燥，所以所述 聚合物溶液从所述支承层(2)朝所述膜侧(M)的方向至少基本上消退，从而在 所述膜侧(M)形成所述聚合物膜(3)，以及，尤其在所述支承层(2)与所述聚合 物膜(3)毗邻的边缘区(R)内使所述支承层(2)的孔隙容积减小。

2.按照权利要求1所述的方法，其特征为，所述聚合物膜(3)直接在所 述支承层(2)的一个表面或平侧构成，或间接地尤其通过一夹层(4)在所述支 承层(2)的一个表面或平侧构成。

3.按照权利要求1或2所述的方法，其特征为，所述聚合物溶液至少 基本上在所述支承层(2)的膜侧(M)或夹层(4)上通过沿厚度方向的加速和/或 施加负压分离。

4.按照前列诸权利要求之一所述的方法，其特征为，干燥后将所述聚 合物膜(3)熔化在所述支承层(2)或所述夹层(4)上。

5.按照前列诸权利要求之一所述的方法，其特征为，在构成第一聚合 物层(3′)后在它上面构成第二聚合物层(3″)，尤其通过再次施加聚合物溶液并 干燥，其中，尤其在所述第二聚合物层(3″)干燥后将它熔化在所述第一聚合 物层(3′)上。

6.一种设计用于气体分离的膜结构(1)的制造方法，此膜结构具有一多 孔的支承层(2)和与之尤其通过夹层(4)间接或直接面状连接的、可透过气体 (G)但液体(F)不能渗透的薄的聚合物膜(3)，其中，聚合物蒸发在所述支承层 (2)或设在该支承层上面的所述夹层(4)上，以构成所述聚合物层(3)。

7.按照权利要求6所述的制造方法，其特征为，所述聚合物在蒸发在 所述支承层(2)或所述夹层(4)上后熔化，以构成所述聚合物层(3)。

8.一种用于气体分离的膜结构(1)的制造方法，此膜结构具有一多孔的 支承层(2)和与之尤其通过夹层(4)间接或直接面状连接的、可透过气体(G)但 液体(F)不能渗透的薄的聚合物膜(3)，其中，所述支承层(2)在一个平侧通过 加热和/或加压密实，从而减小在此平侧的区域内的孔隙尺寸和/或密度，和/ 或构成所述聚合物膜(3)或所述夹层(4)。

9.按照权利要求8所述的制造方法，其特征为，接着在所述支承层(2) 或所述夹层(4)上按照权利要求1至7之一所述制成所述聚合物层(3)。

10.一种用于气体分离的膜结构(1)的制造方法，此膜结构具有一多孔的 支承层(2)和与之尤其通过夹层(4)间接或直接面状连接的、可透过气体(G)但 液体(F)不能渗透的薄的聚合物膜(3)，其中，在一无孔隙或只有少量孔隙的 支承层(2)上构成发泡的聚合物层(3)。

11.一种用于气体分离的膜结构(1)的制造方法，此膜结构具有一多孔的 支承层(2)和与之尤其通过夹层(4)间接或直接面状连接的、可透过气体(G)但 液体(F)不能渗透的薄的聚合物膜(3)，其中，一厚的无定形聚合物层在部分 厚度区内发泡，从而在发泡的厚度区内形成所述多孔的支承层(2)并且在其余 厚度区内形成所述薄的聚合物层(3)。

12.一种用于气体分离的膜结构(1)，它具有多孔的支承层(2)和与之间接 或直接面状连接的、可透过气体(G)但液体(F)不能渗透的薄的聚合物膜(3)， 在这里所述膜结构(1)尤其按照权利要求1至5之一所述制造，其中，所述支 承层(2)的孔隙容积朝膜侧(M)的方向减小，和/或在所述支承层(2)与所述聚合 物膜(3)毗邻的边缘区(R)内缩小。

13.按照权利要求12所述的膜结构，其特征为，所述支承层(2)的孔隙 容积通过填充或加入所述聚合物膜(3)的聚合物减小或缩小。