[发明专利]超导薄膜材料的制造方法，超导装置和超导薄膜材料

权利要求书

1.一种制造超导薄膜材料(10)的方法，其包括：

通过气相方法形成气相生长超导层(3)的气相步骤(S3)；以及

通过液相方法形成液相生长超导层(4)的液相步骤(S4)，该液相步骤使得所述液相生长超导层与所述气相生长超导层相接触。

2.根据权利要求1所述的制造超导薄膜材料(10)的方法，其中

在所述气相步骤(S3)中，在衬底(1)的前表面(1a)侧形成所述气相生长超导层(3)，并且所述方法进一步包括：

在所述衬底的后表面(1b)侧通过气相方法形成后表面侧气相生长超导层(7)的后表面侧气相步骤(S7)；以及

通过液相方法形成后表面侧液相生长超导层(8)的后表面侧液相步骤(S8)，该后表面侧液相步骤使得所述后表面侧液相生长超导层与所述后表面侧气相生长超导层相接触。

3.根据权利要求1所述的制造超导薄膜材料(10)的方法，其进一步包括在所述液相步骤(S4)之后形成超导层使得该超导层与所述液相生长超导层(4)相接触的步骤。

4.一种超导装置，其使用根据权利要求1所述的制造超导薄膜材料的方法而制造的超导薄膜材料(10)。

5.一种制造超导薄膜材料(10)的方法，其包括：

n个气相步骤(n是至少为2的整数)(S3，S5)，每个气相步骤用于通过气相方法形成气相生长超导层(3，5)；以及

n个液相步骤(S4，S6)，每个液相步骤用于通过液相方法形成液相生长超导层(4，6)，其中

在所述n个气相步骤的第一气相步骤(S3)中，形成第一气相生长超导层(3)，

在所述n个液相步骤的第一液相步骤(S4)中，形成第一液相生长超导层(4)，使得第一液相生长超导层与所述第一气相生长超导层相接触，

在所述n个气相步骤的第k气相步骤(S5)中(k是满足n≥k≥2的整数)，形成第k气相生长超导层(5)，使得第k气相生长超导层与第(k-1)液相生长超导层(4)相接触，

在所述n个液相步骤的第k液相步骤(S6)中，形成第k液相生长超导层(6)，使得第k液相生长超导层与第k气相生长超导层(3)相接触。

6.根据权利要求5所述的制造超导薄膜材料(10)的方法，其进一步包括在所述第n液相步骤(S6)之后形成超导层使得该超导层与第n液相生长超导层(6)相接触的步骤。

7.一种超导装置，其使用根据权利要求5所述的制造超导薄膜材料的方法而制造的超导薄膜材料(10)。

8.一种超导薄膜材料(10)，其包括第一超导层(3)和形成为与所述第一超导层相接触的第二超导层(4)，并且具有大于110(A/cm-宽度)的临界电流值。