[发明专利]维修方法、曝光方法及装置、以及元件制造方法

说明书

技术领域

本发明有关于透过液体以曝光用光使基板曝光的曝光装置的维修技术、及使用此维修技术的曝光技术及元件制造技术。

背景技术

半导体元件及液晶显示元件等微元件(电子元件)，是使用将形成于标线片等光掩膜上的图案转印至印至涂有光刻胶等感光材料的晶片等基板上、所谓的微影法加以制造。此微影制造工艺中，为了将光掩膜上的图案透投影光学系统转印至基板上，使用步进重复(step&repeat)方式的缩小投影型曝光装置(所谓的步进器、stepper)、及步进扫描(step&scan)方式的缩小投影型曝光装置(所谓的扫描步进器、scanning stepper)等的曝光装置。

此种曝光装置，为了根据随着半导体元件等高积体化的图案微细化而年年提高的分辨率(解析力)要求，进行了曝光用光的短波长化及投影光学系统孔径数(NA)的增加(大NA化)。然而，曝光用光的短波长化及大NA化虽能提升投影光学系统的分辨率，但却会导致焦深的窄小化，因此如此下去的话焦深将变得过窄，恐有曝光动作时聚焦欲度不足之虞。

因此，作为一种实质上缩短曝光波长、且与在空气相较使焦深广的方法，开发了一种利用液浸法的曝光装置(例如，参照专利文献1)。此液浸法，是将投影光学系统的下面与基板表面之间充满水或有机溶媒等液体，以在形成液浸区域的状态下进行曝光。据此，利用曝光用光在液体中的曝光用光波长为空气中的1/n倍(n是液体的折射率，例如为1.2～1.6左右)的特性，来提升解像度且能将焦深扩大至约n倍。

专利文献1：国际公开第99/49504号小册子

使用上述液浸法进行曝光处理时，一边从既定的液体供应机构将液体供应至投影光学系统与基板间的液浸区域、一边进行曝光，并以既定的液体回收机构回收该液浸区域的液体。然而，在使用此液浸法的曝光中，光刻胶残渣等的微小异物(微粒)有可能附着于与该液体接触的部分，例如附着于液体供应机构及液体回收机构的液体流路等液体接触的部分。此种附着的异物，有可能会在之后的曝光时再度混入液体中而附着于曝光对象的基板上，成为待转印图案的形状不良等缺陷的原因。

因此，最好是能在例如曝光装置的定期性维修等时，以某种方式有效率的除去蓄积在其液体供应机构及液体回收机构的液体流路等的异物(杂质)。

发明内容

本发明有鉴于上述情况，其目的在于提供一种以液浸法进行曝光的曝光装置的有效率的维修技术。

又，本发明的另一目的，是提供一种能容易的应用该维修技术的曝光技术及元件制造技术。

又，本发明的再一目的，是提供一种能容易的进行与该液体接触的液体接触部的洗净的洗净技术、曝光技术、以及元件制造技术。

本发明的第1维修方法，是用以维修曝光装置，该曝光装置以第1液体充满光学构件2与基板P之间以形成液浸空间，透过该光学构件与该第1液体以曝光用光使该基板曝光，其包含：移动步骤，与使用该第1液体形成该液浸空间的液浸空间形成构件30对向配置可动体MST；液浸步骤，使用该液浸空间形成构件于该可动体上形成该第1液体所构成的该液浸空间；以及洗净步骤，为进行与该第1液体接触的液体接触部的洗净，从该可动体侧朝包含该液体接触部至少一部分的区域喷出第2液体。

根据本发明，能容易的将以液浸法进行曝光时附着于该液体接触部的异物的至少一部分与该第2液体一起去除。此时，预先或至少局部的平行实施以该第1液体形成液浸空间，即能容易的除去附着于该液体接触部的异物。因此，能有效率维修进行该第1液体的供应及回收的机构。

又，本发明的第2维修方法，用以维修曝光装置，该曝光装置系以第1液体充满光学构件2与基板P之间以形成液浸空间，透过该光学构件与该第1液体以曝光用光使该基板曝光，其包含：移动步骤，系与使用该第1液体形成该液浸空间的液浸空间形成构件30对向配置可动体MST；蓄积步骤，使用该液浸空间形成构件将该第1液体供应至该可动体上，并蓄积此供应的该第1液体；以及洗净步骤，为进行与该第1液体接触的液体接触部的洗净，将于该蓄积步骤中蓄积的该第1液体朝包含该液体接触部至少一部分的区域喷出。

根据本发明，能容易的将以液浸法进行曝光时附着于该液体接触部的异物的至少一部分与该第2液体一起去除。此时，预先或平行实施液浸曝光时所使用的第1液体的供应，即能容易的除去附着于液体接触部的异物，且由于该第1液体也作为洗净用的液体，因此，能简化洗净用液体的供应机构。