[发明专利]胶体材料的分子等离子体沉积无效
申请号: | 200780006725.X | 申请日: | 2007-01-16 |
公开(公告)号: | CN101389365A | 公开(公告)日: | 2009-03-18 |
发明(设计)人: | 丹尼尔·M·斯托里;特伦斯·S·麦格拉思;图沙尔·M·希姆皮 | 申请(专利权)人: | 变色龙科学公司 |
主分类号: | A61L27/54 | 分类号: | A61L27/54;A61L27/28 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 章社杲;张 英 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 胶体 材料 分子 等离子体 沉积 | ||
相关申请
本申请要求于2006年2月27日提交的美国临时申请序列号 60/777,104的优先权,将其全部内容通过引用结合于此。
技术领域
本发明涉及一种用于将电晕放电用来将胶体悬浮分子沉积到 基底(基材,substrate)上的装置和方法。该方法可应用于将有机 和无机化合物,尤其是蛋白质和感兴趣的相关生物学化合物沉积到 所选基底上同时很小或没有丧失(损失,loss)天然结构或活性。
背景技术
对于将生物学活性物质固定到各种基底上同时不会显著改变 功能或期望活性的兴趣日益增加。例如,涂覆抗生素的表面通常通 过浸渍或涂漆工艺制备,这经常导致附着性较差、表面润湿不完全 或粘附较差。
现在已经广泛开发了离子等离子体沉积(IPD)法并将其用于 涂覆工艺,主要目的是产生高粘附性涂层和指定的表面特性。最近 人们已将注意力集中于制备生物相容性的涂覆表面,如那些适于医 用植入物的涂覆表面,其中涂层可增强细胞粘附性,抗微生物涂层 则在避免手术后可能的败血症方面非常重要。
电晕放电是一种为人熟知的现象,在自然界中已长期观察到该 现象,并将其常规用于多种商业和工业过程中,目前其用于臭氧生 成,控制表面产生的电荷和影印中。电晕放电也已用来改良表面, 特别是用于塑料制品以改善表面特性,如在美国专利No.3,274,089 中所描述的。包含液体或粉末状材料的电晕放电的静电涂覆工艺在 美国专利4,520,754中描述为一种涂覆方法。
当流体中一个点处的电势梯度大到足以引起该流体离子化而 使其变得可以导电时,即产生电晕。如果带电体具有尖点,则该点 周围的空气将处于比其他点高得多的梯度。电极附近的空气可被离 子化(部分导电),而较远区域则不会被离子化。当该点附近的空 气变得可以导电时,则具有增大该导体表观尺寸的效应。由于新的 传导区域不那么尖锐,所以离子化可能不会越过局部区域。在离子 化和导电区域的外部,带电粒子缓慢找到相反带电荷体并被中和。
电晕放电通常涉及两个不对称电极;一个高度弯曲,例如针尖 或小直径金属丝,另一个则曲率较低,例如平板电极或接地电极。 高曲率确保该电极周围的高电势,为产生等离子体作准备。如果几 何形状和梯度使得离子化区域连续形成而非在某一半径处停止,则 可形成完全的传导通路,产生瞬间闪光或连续弧光。
电晕可以为正或负,由高弯曲电极上的电压极性决定。如果弯 曲电极相对于平电极是正的,则存在正电晕;否则电晕是负的。正 负电晕的物理性质显著不同。这种不对称是电子与正电荷离子之间 质量差异较大的结果,其中仅电子具有在常温常压下发生显著程度 离子化非弹性碰撞的能力。
电晕放电系统已用来激活化学化合物,通常用来将电晕放电内 形成的聚合物和可聚合单体沉积到表面上作为保护涂层;如美国专 利No.3,415,683中所描述的。美国专利No.5,733,360中描述了一种 用于化学活化气流(流入硫和氮氧化物以及汞蒸气)的组分的电晕 放电反应器。该反应器设计成通过对多个电晕放电电极施加高电压 脉冲长达100纳秒而脉冲产生电晕。
WO 2006/046003描述了多种涉及利用等离子体的用于涂覆基 底的方法,包括使用低压脉冲的等离子体以引入单体或结合自由基 引发剂的单体从而在合适基底上引发聚合反应。使用大气压分散介 电阻挡层放电组件,在其中引入含有所述单体的雾化液体使得涂层 材料由10至100μm的雾化液滴形成。在WO 03/084682中描述了 使用射频激励电极的大气压辉光放电等离子体发生装置。
WO 02/28548中描述了一种等离子体涂覆装置和方法。在大气 压下,将液体或固体雾化涂层形成材料引入等离子体放电中,且除 含硅单体外,对于有机涂层如聚丙烯酸或全氟化合物非常有用。
电晕效应不总是被认为是有益的,并且事实上可能引起电弧放 电(arcing)或电晕击穿。除了这种击穿,电晕效应可能太强而不 能成功地仅单独地是复杂分子带电。当分子在较高水平离子化时, 它们可能裂解并丧失结合和功能性质。
沉积液体溶液的等离子体中所产生材料的一个缺点是,所存在 的任何溶剂通常均与预期材料一起沉积,形成不需要的结构。对于 大多数在等离子体生成过程中可发生电晕放电的工艺来说,通常是 努力降低电晕效应而非将该效应用作一种沉积技术。
现有技术的缺陷
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