[发明专利]具有高生物降解性能和低毒性的缓蚀剂无效
申请号: | 200780007454.X | 申请日: | 2007-01-10 |
公开(公告)号: | CN101395303A | 公开(公告)日: | 2009-03-25 |
发明(设计)人: | D·雷恩威伯;M·福斯特尔 | 申请(专利权)人: | 克拉里安特国际有限公司 |
主分类号: | C23F11/16 | 分类号: | C23F11/16;C07C323/59;C09K8/54 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王 健 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 生物降解 性能 毒性 缓蚀剂 | ||
1.一种盐作为缓蚀剂的用途,所述盐由式(1)的化合物和式(2)的胺的反应获得,
其中
R1是C1-至C30-烷基,C2-至C30-烯基,C6-至C30-芳基或C7-至C30-烷基芳基,
R2是C1-至C30-烷基,C2-至C30-烯基,C6-至C30-芳基或C7-至C30-烷基芳基,或任选含有杂原子并具有1至30个碳原子的有机基团,以及
R3、R4各自独立地为氢,C1-至C30-烷基,C2-至C30-烯基,C6-至C30-芳基或C7-至C30-烷基芳基,或任选含有杂原子并具有1至30个碳原子的有机基团,其中R3和R4任选地形成具有包括氮原子的5至7个环原子的环。
2.根据权利要求1所述的用途,其中R1是具有8至18个碳原子的烷基或烯基。
3.权利要求1或2所述的用途,其中一个、两个或全部的R2、R3和R4基团为-CH2-CH2-OH。
4.权利要求1或2所述的用途,其中R2、R3、R4基团中的两个中的一个为C1-至C8-烷基基团,和一个为其中n=2至10的-(CH2CH2O)n-H基团。
5.权利要求1或2所述的用途,其中式(2)的胺是式(3)的化合物,
其中
R5是氢或任选地含有杂原子的C1-30烷基基团,以及
X是C、O或N。
6.权利要求1或2所述的用途,其在矿物油提取和加工中作为碳氢化合物的提取和运输装置上和内的缓蚀剂。
7.权利要求1或2所述的用途,其作为在金属加工助剂中的缓蚀剂。
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