[发明专利]层合结构、使用该层合结构制备液晶单元基板的方法、液晶单元基板、以及液晶显示装置有效
| 申请号： | 200780007759.0 | 申请日： | 2007-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN101395504A | 公开（公告）日： | 2009-03-25 |
| 发明（设计）人： | 富田秀敏;网盛一郎;冈村寿 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B5/20;B32B7/02;B32B27/16;B32B27/30;G02F1/13363 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 于 辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 结构 使用 制备 液晶 单元 方法 以及 显示装置 | ||
1.一种层合结构，其包括至少一层由液晶组合物形成的光学各向异性层，以及至少一层光敏聚合物层，所述液晶组合物包含具有两种或更多种反应性基团的化合物，所述化合物选自由通式(11)表示的化合物；
其中R102表示氢原子或甲基；R2表示氢原子、甲基或乙基；SP1是由-(CH2)2-{O-(CH2)2}l表示的基团，其中l表示1至3的整数；SP2是由-(CH2)n-表示的基团，其中n表示0至10的整数；L1和L2中的每一个表示二价连接基团；并且M表示介晶基。
2.一种液晶单元基板，其包含位于支撑体上的权利要求1所述的层合结构。
3.权利要求1所述的层合结构作为转移材料的用途。
4.一种制造液晶单元基板的方法，其依次包括以下步骤[1]和[2]：
[1]在支撑体上层合权利要求1所述的层合结构；
[2]使支撑体上的层合结构曝光。
5.一种制备液晶单元基板的方法，其依次包括以下步骤[1]至[3]：
[1]在支撑体上层合权利要求1所述的层合结构；
[2]使用光掩模对支撑体上的层合结构进行图案化曝光；
[3]除去支撑体上光学各向异性层和光敏聚合物层的未曝光部分。
6.一种由根据权利要求4所述的方法制备的液晶单元基板。
7.一种液晶显示装置，其包含权利要求2所述的液晶单元基板。
8.根据权利要求7所述的液晶显示装置，其使用STN、TN、OCB、ECB、VA或IPS模式作为液晶模式。
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