[发明专利]溅射靶有效
| 申请号： | 200780008001.9 | 申请日： | 2007-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN101395296A | 公开（公告）日： | 2009-03-25 |
| 发明（设计）人： | 尤金·Y·伊瓦诺夫;袁永文;戴维·B·斯马瑟斯;罗纳德·G·乔丹 | 申请（专利权）人： | 陶斯摩有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋 莉 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.溅射靶，包括Al合金和由Ni组成的第二元素，所述Al具有至少99.999 重量％的纯度，所述Al与Si合金化，所述Ni以0.2ppm-10ppm的量存在， 其中Si以30ppm的量存在。
2.权利要求1的溅射靶，所述Ni以4ppm的量存在。
3.权利要求1的溅射靶，具有比无Ni的Al-30ppmSi靶高60℃的重结晶 温度。
4.权利要求2的溅射靶，具有2.71微欧姆·厘米的电阻率。
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