[发明专利]被膜形成用涂布液，其制造方法，其被膜及反射防止材料

说明书

技术领域

本发明涉及含有聚硅氧烷的被膜形成用涂布液，其制造方法，由该涂布液 形成的被膜以及具有该被膜的反射防止材料。

背景技术

一直以来，已知如果在基材的表面形成具有小于该基材折射率的低折射率 的被膜，则从该被膜的表面反射的光的反射率降低。并且，上述显示出降低了 的光反射率的低折射率被膜被作为光反射防止膜使用，用于各种基材表面。

例如，专利文献1揭示了形成反射防止膜的方法，该方法是将作为Mg源 的镁盐或烷氧基镁(alkoxy magnesium)化合物等与作为F源的氟化物盐反应生 成的MgF₂微粒子的醇分散液、或为了膜强度的提高而向其中添加了四烷氧基硅 烷(tetra-alkoxy silane)等的分散液制成涂布液，将其涂布于玻璃基材，以 100～500℃的温度热处理，在基材上形成显示出低折射率的反射防止膜。

此外，专利文献2揭示了制作被膜的技术方案，它是将平均分子量不同的、 2种以上的、四烷氧基硅烷等的水解缩聚物与醇等溶剂混合成为涂覆(coating) 液，由该涂覆液形成被膜时，再加上对上述混合时的混合比例、相对湿度加以 控制等手段，来制作被膜的方法。被膜可通过以250℃以上的温度加热得到， 显示出1.21～1.40的折射率，具有直径50～200nm的微坑(micropit)或凹凸， 具有60～160nm的厚度。被膜可形成于玻璃基板上，制造低反射玻璃。

此外，专利文献3揭示了低反射率玻璃，该低反射率玻璃由玻璃、形成于 其表面的具有高折射率的下层膜、还有形成于其表面的具有低折射率的上层膜 构成。上层膜的形成以下述方法进行：将CF₃(CF₂)₂C₂H₄Si(OCH₃)₃等具有多氟碳 链(poly fluorocarbon chain)的含氟硅化合物、和与其相对5～90质量％的 Si(OCH₃)₄等有机硅烷偶合剂(silane coupling agent)于醇溶剂中在乙酸等催 化剂的存在下在室温下水解，之后过滤，将藉此调制出的缩聚物液体涂布于上 述下层膜上，以120～250℃的温度加热。

还有，专利文献4揭示了涂布液，该涂布液是将以特定比例含有以Si(OR)₄表示的硅化合物、以CF₃(CF₂)_nCH₂CH₂Si(OR¹)₃表示的硅化合物、以R²CH₂OH表示 的醇和草酸的反应混合物在无水条件下以40～180℃的温度加热，藉此生成的 聚硅氧烷的溶液。将该涂布液涂布于基材表面，以80～450℃的温度使其热固 化，藉此可形成具有1.28～1.38的折射率和90～115度的水接触角的被膜。

专利文献1：日本专利特开平05—105424号公报

专利文献2：日本专利特开平06—157076号公报

专利文献3：日本专利特开昭61—010043号公报

专利文献4：日本专利特开平09—208898号公报

发明的揭示

虽然上述的反射防止膜被用于各种显示装置等，但是近年来，在液晶和等 离子等显示装置的大型化、轻量化和薄型化的进程中，用于它们的反射防止基 材，特别是反射防止膜，有因轻量化和高透明化等目的而使膜厚度变薄的倾向、 产生因热而受到的损伤变大的问题。因此，对能够通过膜不会受到损伤的程度 的低温处理得到反射防止基材的、在较低的温度下固化的热固化型的被膜形成 用涂布液的期望比以前更强。然而，如上所述，已有的低折射率被膜的固化温 度并不足够地低，希望进一步降低固化温度。

因此，本发明的目的是提供保存稳定性优良、通过低温度的加热处理能充 分地固化而形成低折射率、耐擦伤性优良的被膜的涂布液，其有效的制造方法， 由该涂布液得到的被膜，以及使用该被膜的反射防止用途。

本发明者为达到上述目的进行了认真研究，结果完成了本发明。

即，本发明的技术内容如下所述。