[发明专利]处理气流的装置

权利要求书

1.一种在从工艺反应室中泵抽出含有有机金属前体的气流时， 防止金属在真空泵中沉积的方法，所述方法包含向所述真空泵上游 的气流供应卤素，使其与所述前体反应形成气态金属卤化物的步 骤。

2.权利要求1的方法，其中所述金属包括Al、Co、Cu、Fe、 Hf、Ir、Ni、Mo、Nb、Ta、Ti、Va、Zn和Zr中的一种。

3.一种在从工艺反应室中泵抽出含有有机铝前体的气流时，防 止铝在真空泵中沉积的方法，所述方法包含向所述真空泵上游的气 流供应卤素，使其与所述前体反应形成气态卤化铝的步骤。

4.上述权利要求中任一项的方法，其中所述卤素包括氯、溴和 碘的一种。

5.权利要求4的方法，其中以氯自由基的形式将氯加入气流。

6.权利要求5的方法，其中通过将氯自由基源热分解形成氯自 由基。

7.权利要求6的方法，其中通过等离子体将氯自由基源热分 解。

8.权利要求6或7的方法，其中所述氯自由基源包括CCl₄。

9.上述权利要求中任一项的方法，其中将卤素传输到位于工艺 反应室和泵之间的反应室。

10.上述权利要求中任一项的方法，其中所述前体为下述的一 种：三甲基铝、三乙基铝、二乙基乙醇铝、二甲基氢化铝、三异丁 基铝、二甲基乙基胺基铝烷、二甲基异丙醇铝、仲丁醇铝、三(二甲 胺根)合铝、三(二乙胺根)合铝、三(乙基甲基胺根)合铝和例如甲基吡 咯烷铝烷的烷基吡咯烷铝烷。

11.一种用于在含有有机金属前体的气流进入真空泵之前处理该 气流的装置，所述装置包含向所述真空泵上游的气流供应卤素，使 其与前体反应形成气态金属卤化物的设备。

12.权利要求11的装置，其中安装所述供应设备以向气流供应 氯、溴和碘中的一种。

13.权利要求11或12的装置，其中安装所述供应设备以向气流 供应氯自由基，并且包含从氯自由基源产生氯自由基的设备。

14.权利要求13的装置，其中所述产生氯自由基的设备将氯自 由基源热分解。

15.权利要求14的装置，其中所述产生氯自由基的设备包括等 离子发生器。

16.权利要求11至15中任一项的装置，所述装置包含用于接收 气流和来自所述供应设备的卤素的反应室。

17.权利要求11至16中任一项的装置，其中所述前体包括下述 的一种：三甲基铝、三乙基铝、二乙基乙醇铝、二甲基氢化铝、三 异丁基铝、二甲基乙基胺基铝烷、二甲基异丙醇铝、仲丁醇铝、三 (二甲胺根)合铝、三(二乙胺根)合铝、三(乙基甲基胺根)合铝和例如 甲基吡咯烷铝烷的烷基吡咯烷铝烷。

18.一种用于在含有有机铝前体的气流进入真空泵之前处理该气 流的装置，所述装置包含向真空泵上游的气流供应氯，使其与前体 反应形成氯化铝的设备。