[发明专利]光学膜及其制造方法

权利要求书

1.一种光学膜，其为金属氧化物分散于透明树脂中的光学膜，其特征在 于，在该光学膜的厚度方向上，所述金属氧化物的粒径梯度性地变化，并且该 金属氧化物的体积分数实质上没有变化，

当所述光学膜的存在于从一个面至厚度40％的范围的所述金属氧化物的 每单位面积的平均粒径为X，从另一个面至厚度40％的范围的所述金属氧化物 的每单位面积的平均粒径为Y，且X比Y大时，用X/Y定义的粒径梯度为1.2 以上，

当所述光学膜的存在于从一个面至厚度40％的范围的所述金属氧化物的 体积分数为W，从另一个面至厚度40％以内的范围的所述金属氧化物的体积 分数为V，且W为V以上时，用W/V定义的体积分数梯度为1.0～1.5。

2.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述光学膜为光扩散膜。

3.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，厚度为30μm以下，并且 雾度值为70％以上。

4.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，单面或双面的平均面粗 糙度Ra为100nm以下。

5.一种光学膜的制造方法，其为权利要求1所述的光学膜的制造方法， 其特征在于，包括：(A)将通过溶胶-凝胶反应生成金属氧化物的金属化合物， 在溶剂中进行溶胶-凝胶反应的工序；(B)准备以透明树脂为溶质的溶液的工 序；(C)将在所述(A)工序中得到的混合物与在(B)工序中得到的溶液进 行混合的工序；以及(D)将在所述(C)工序中得到的混合物在基板或容器 上涂布或者展开后，进行加热使溶剂蒸发来形成膜的工序，该光学膜的全光线 透过率为70％以上，且雾度值为20％以上。

6.根据权利要求5所述的光学膜的制造方法，其特征在于，在所述(D) 工序之前，进一步包含使在(C)工序中得到的混合物中存在的所述金属氧化 物进行溶胶-凝胶反应的工序。

7.一种光学膜的制造方法，其为权利要求1所述的光学膜的制造方法， 其特征在于，包括：(E)准备以透明树脂为溶质的溶液的工序；(F)向在所 述(E)工序中得到的溶液中混合通过溶胶-凝胶反应生成金属氧化物的金属化 合物，并进行溶胶-凝胶反应的工序；以及(G)将在所述(F)工序中得到的 混合物在基板或容器上涂布或者展开后，进行加热使溶剂蒸发来形成膜的工 序，该光学膜的全光线透过率为70％以上，且雾度值为20％以上。

8.根据权利要求5或7所述的光学膜的制造方法，其特征在于，所述(D) 或(G)的制膜工序包含使由所述溶胶-凝胶反应生成的金属氧化物的粒子成长 的工序。

9.根据权利要求8所述的光学膜的制造方法，其特征在于，所述使金属 氧化物的粒子成长的工序是使所述粒径相对于所述光学膜的厚度方向梯度性 地变化来成长的工序。

10.根据权利要求5或7所述的光学膜的制造方法，其特征在于，所述透 明树脂是聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚醚酮、聚醚 醚酮、聚苯乙烯、聚酯、环氧树脂、聚酰胺、聚砜、聚芳酰胺、聚氨酯、聚醋 酸乙烯酯、聚乙烯醇或聚丙烯酸。

11.根据权利要求5或7所述的光学膜的制造方法，其特征在于，所述通 过溶胶-凝胶反应生成金属氧化物的金属化合物包含硅、钛、锆或铝元素。

12.根据权利要求5或7所述的光学膜的制造方法，其特征在于，所述通 过溶胶-凝胶反应生成金属氧化物的金属化合物是金属醇盐、金属乙酰丙酮化 合物、金属羧酸盐或者它们的缩聚物。

13.根据权利要5或7所述的光学膜的制造方法，其特征在于，在所述溶 胶-凝胶反应中，作为催化剂，使用无机酸、有机酸、无机碱或有机碱。

14.根据权利要求5或7所述的光学膜的制造方法，其特征在于，所述(D) 工序或(G)工序是在40～180℃下加热1～50小时来蒸发溶剂的工序。