[发明专利]气相二氧化硅分散体

说明书

技术领域

本发明涉及气相二氧化硅分散体以及其在制备涂覆材料中的用途。

背景技术

在涂覆材料中添加气相二氧化硅是已知的。在文献《Schriftenreihe Pigmente》No.18(1980年4月)第5页中，与添加颜料和填料一起添加疏 水气相二氧化硅(972)是已知的。例如为了制备一种透明涂覆材 料，推荐在各个粘合剂溶液中有约10％的糊的制备物，为此可以使用典型 的分散设备。按该方法制备的糊进一步用作制备涂覆材料的磨料。

同样已知的有在涂覆材料中加入硅烷化的、结构改性的气相二氧化硅、 混有溶剂的粘合剂、以及使用高速混合器混入该混合物中的二氧化硅。随 后采用珠磨机分散所形成的混合物(WO 2004/020532)。

已知的将气相二氧化硅加入到涂覆材料体系中的方法的不足在于，以 该方法制备的透明涂覆材料会呈现不希望的雾度和不希望的霜化。

发明内容

因此本发明的目标就是提供一种方法，采用该方法在涂覆材料体系中 添加气相二氧化硅，使得可以避免产生霜化。

本发明提供一种气相二氧化硅分散体，其特征在于包含硅烷化的、结 构改性的二氧化硅和溶剂。

本发明的一个实施方案中，分散体还可以包括添加剂。这样可能的添 加剂的例子包含固化剂。

在本发明一个优选的实施方案中，所述硅烷化的、结构改性的二氧化 硅是气相二氧化硅。基于分散体，该二氧化硅的含量在5重量％-60重量％。 优选固体含量为20重量％-40重量％。所述硅烷化的、结构改性的气相二 氧化硅在WO 2004/020532中是已知的。

硅烷化的、结构改性的气相二氧化硅在表面可具有二甲基甲硅烷基和/ 或单甲基甲硅烷基，优选二甲基甲硅烷基。

本发明中有用的二氧化硅具有以下物理化学参数：

BET表面积m²/g：                     25-400

平均初级粒度nm：                    5-50

pH：                                3-10

碳含量重量％：                      0.1-10

DBP值％：                           ＜200

在本发明中有用的硅烷化的、结构改性的二氧化硅是通过将气相二氧 化硅用二甲基二氯硅烷和/或单甲基硅烷进行表面改性，以及对表面改性的 二氧化硅进行结构的改性而制备的。

在本发明的一个优选实施方案中所用的硅烷化的、结构改性的气相二 氧化硅可以是从BET表面积为200±25m²/g的气相二氧化硅制备的二氧化 硅。所述二氧化硅按照WO 2004/020532用二甲基二氯硅烷进行了硅烷化并 接着进行了结构改性。该气相二氧化硅已知的形式有R9200。

在本发明的一个优选实施方案中，分散体具有以下气相的、硅烷化的、 结构改性的二氧化硅颗粒的尺寸分布：

20重量％到98重量％在0.01μm-1.5μm的范围

2重量％到80重量％在1.5μm-4.0μm的范围

具体的，粒度分布可以如下：

60重量％到95重量％在0.2μm-1.5μm的范围

5重量％到40重量％在1.5μm-3.5μm的范围

本发明的分散体可包含含量为5重量％到70重量％的二氧化硅，优选 含量为20重量％到40重量％。

本发明的分散体可通过用溶剂混合并分散硅烷化的、结构改性的气相 二氧化硅而制备。

在本发明一个实施方案中，分散是通过珠磨机实施的。

可以使用的溶剂包括有机溶剂。