[发明专利]制造高质量表面的方法和具有高质量表面的产品

权利要求书

1、一种用于涂覆具有一个或多个表面的物体的激光烧蚀方法， 其特征在于通过脉冲冷加工激光器烧蚀靶材来涂覆被涂物体，即基 板，以便在通过原子力显微镜(AFM)在一平方微米的面积中测量时， 淀积在被涂物体上的表面的均匀度为±100nm。

2、根据权利要求1的方法，其特征在于淀积在被涂物体上的表 面的均匀度为±25nm。

3、根据权利要求1或2的方法，其特征在于淀积在被涂物体上 的表面的均匀度为±2nm。

4、根据权利要求1-3的方法，其特征在于被涂表面不包括具有 大于1μm直径的颗粒。

5、根据权利要求1-4的方法，其特征在于被涂表面不包括具有 大于100nm直径的颗粒。

6、根据权利要求1-5的方法，其特征在于被涂表面不包括具有 大于25nm直径的颗粒。

7、根据前述权利要求之一的方法，其特征在于基板由金属、金 属化合物、玻璃、石头、陶瓷、人造聚合物、半人造聚合物、天然聚 合物、纸、合成材料、无机或有机单体或低聚材料制成。

8、根据前述权利要求之一的方法，其特征在于靶材由金属、金 属化合物、玻璃、石头、陶瓷、人造聚合物、半人造聚合物、天然聚 合物、合成材料、无机或有机单体或低聚材料制成。

9、根据权利要求1的方法，其特征在于激光装置的功率至少为 10W。

10、根据权利要求1或9的方法，其特征在于激光装置的功率至 少为20W。

11、根据权利要求1、9或10的方法，其特征在于激光装置的功 率至少为50W。

12、根据前述权利要求之一的方法，其特征在于在具有10^-1-10^-12个大气压的真空中进行激光烧蚀。

13、根据除权利要求12以外的前述权利要求中的任意一项的方 法，其特征在于在正常空气压力下进行激光烧蚀。

14、根据权利要求1的方法，其特征在于通过激光束烧蚀靶材， 以便使材料从早期区别地未烧蚀的靶材的点处基本上连续地被蒸发。

15、根据权利要求14的方法，其特征在于以薄层馈送来馈送靶 材。

16、根据权利要求14的方法，其特征在于以膜/带馈送来馈送靶 材。

17、根据权利要求16的方法，其特征在于靶材厚度为5μm-5mm， 有利地为20μm-1mm且优选为50μm-200μm。

18、根据权利要求1的方法，其特征在于通过涡流扫描器将激光 束引导到靶材。

19、根据权利要求18的方法，其特征在于引导到靶材的扫描宽 度为10mm-800mm，有利地为100mm-400mm且优选为 150mm-300mm。

20、根据权利要求1的方法，其特征在于基板在通过激光烧蚀而 从一个或多个靶材蒸发的等离子体羽中移动。

21、根据权利要求1的方法，其特征在于靶材和基板之间的距离 在整个烧蚀工艺中基本保持不变。

22、根据权利要求1的方法，其特征在于被涂表面由同时从多个 靶材烧蚀的材料形成。

23、根据权利要求1或22的方法，其特征在于形成被涂表面， 以使得在被烧蚀材料形成的等离子体羽中引入与包含在等离子体羽 中的被烧蚀材料反应的反应材料，所得的化合物或各化合物在基板上 形成将被制造的表面。

24、根据权利要求1的方法，其特征在于形成被涂表面，以使所 述表面每1mm²包含少于一个针孔，有利地为每cm²少于一个针孔， 以及优选地为在整个涂覆区域中根本不包含任何针孔。