[发明专利]用于烹饪器具的具有硅垫圈的盖体有效
申请号: | 200780010402.8 | 申请日: | 2007-03-23 |
公开(公告)号: | CN101410042A | 公开(公告)日: | 2009-04-15 |
发明(设计)人: | 纳塔利·贝尔热拉;克里斯托夫·洛尔蒂瓦;帕斯卡尔·居勒瑞 | 申请(专利权)人: | SEB公司 |
主分类号: | A47J36/06 | 分类号: | A47J36/06;A47J37/10;A47J27/21 |
代理公司: | 北京万慧达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 葛 强;张一军 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 烹饪 器具 具有 垫圈 | ||
技术领域
本发明涉及用于烹饪器具的盖体,例如锅盖。
背景技术
专利申请文件GB2302263公开了一种用于烹饪器具的下述类型的盖 体,其包括设计用于覆盖烹饪器具的盖以及盖周围的硅垫圈。在该文件 中,垫圈实际上是具有相对恒定宽度的密封件,其仅沿盖的周边缠绕。
发明内容
本发明旨在提供一种盖体,其垫圈可使盖体以及垫圈中集成有新的 功能性。
根据本发明,沿径向,垫圈延伸超出盖的周边至少10mm或甚至 16mm。
因为其自身表面足够大,因此能够提供开口以使蒸汽或任何器材通 过,而无需更换盖体的盖。
附图说明
通过对图中所示的六个非限制性示例性实施例的描述,其他特征及 优点将变的更加清楚,其中:
图1是根据本发明的第一实施例的盖体(没有握持构件)的底部立 体图;
图2是图1所示盖体的径向端部的剖视图;
图3是根据本发明的第二实施例的盖体的立体示意图,其中盖体位 于烹饪器具上;
图4是根据本发明的第三实施例的盖体的径向端部的剖视示意图, 其中盖体位于烹饪器具上;
图5是类似于图4的视图,其中示出了根据本发明的第四实施例的 盖体;
图6是包括根据本发明的第五实施例的盖体的一组烹饪器具的剖视 图;
图7是根据本发明的第六实施例的盖体的立体示意图,其中盖体位 于烹饪器具上;
图8是类似于图5的视图,其中示出了根据本发明的第七实施例的 盖体;而
图9是根据本发明的第八实施例的盖体的立体图。
具体实施方式
如图1至图9所示,用于烹饪器具2的盖体1一方面包括形成盖体1 的主要部分并被设计用来覆盖烹饪器具2的盖3(例如由玻璃制成),另 一方面还包括沿盖3设置的垫圈4。在本发明中,垫圈4是由硅制成并在 对盖3的包覆成型操作过程中制得。。如图2所示,垫圈4沿径向包括 两个部分:覆盖盖3的一部分的覆盖部分5(径向延伸至盖3的周边6的 覆盖部分5)以及不会覆盖盖3的任何部分的延伸部分7(布置超出盖3 的周边6的延伸部分7)。
根据本发明,垫圈4沿径向延伸超出盖3的周边6至少10mm,或者 甚至15mm,换言之,在其最外周(就角度而言),延伸部分7具有沿径 向至少等于10mm或者甚至15mm的尺寸。
另一方面,垫圈4包括使得盖体1能够在烹饪器具2上被对中的对 中装置8,9,10,11。
在图1,2,5及8所示的实施例中,通过下落壁8,9来形成这些对 中装置8,9。具体而言,在图1及2的实施例中,对中装置8由(在四 个的情况下)对中凸起(stud)8形成,对中凸起8分布在垫圈4的周边, 并仅在较小角度区域上延伸。在图5及图8所示的实施例中,对中装置9 由环形壁9形成,环形壁9沿整个垫圈4的周边延伸。
在图2及图5所示的实施例中,下落壁8,9沿径向延伸超出盖3的 周边6:其至少部分(在这里为全部)地由延伸部分7承载。在图8所示 的实施例中,环形壁9沿径向在盖3前方延伸:其至少部分(在这里为 全部)地由覆盖部分5承载。
图6所示的实施例示出了并非由下落壁而是由垫圈4的周边形成的 对中装置10,11。此外,在本实施例中,垫圈4包括位于盖体1两侧的 对中装置10,11,其使得其外周边缘具有与盖体的两侧的对中装置10, 11(在本实施例中,两侧的对中装置10,11相同)对应的尺寸的两个烹 饪器具2,2a能够被面对面存储。
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