[发明专利]对称MIM电容器设计有效
申请号: | 200780010765.1 | 申请日: | 2007-04-03 |
公开(公告)号: | CN101410942A | 公开(公告)日: | 2009-04-15 |
发明(设计)人: | 金钟海;R·特兹辛斯基;J-O·普鲁查特;金文柱;赵忠衍 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L27/08;H01L23/522;H01L29/92;H01L27/06;H01L29/94 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 秦 晨 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 对称 mim 电容器 设计 | ||
1.一种安装在半导体芯片上的电容电路组件,其包括
芯片衬底;
接近于衬底安装的至少两个电容器;
其中,每个电容器具有被介电材料隔开的第一和第二导电极板;
其中,每个第二导电极板安装得平面地接近所述衬底至足以具有大于每个第一导电极板的非本征电容的与所述衬底之间的第二极板非本征电容;
所述第一极板的一半和所述第二极板的一半通过第一端口电路而连接到第一端口,其中,第一端口具有来自于所述第二极板的一半的第一端口复合非本征电容;以及
所述第一极板的剩余的一半和所述第二极板的剩余的一半通过第二端口电路而连接到第二端口,其中,第二端口具有来自于所述第二极板的剩余的一半的第二端口复合非本征电容,第二端口复合非本征电容等于第一端口复合非本征电容;
其中,所述衬底进一步包括具有第一和第二端子的线程前端电容器,所述线程前端电容器限定衬底占地区;
其中,所述第一端口电连接到线程前端电容器结构第一端子,并且第二端口电连接到线程前端电容器结构第二端子;并且
其中,所述至少两个电容器布置在线程前端电容器占地区内的衬底上。
2.权利要求1的结构,其中,所述至少两个电容器是金属-绝缘体-金属电容器,并且所述电容电路组件位于线程后端半导体电容器电路中。
3.权利要求1的结构,其中,所述至少两个电容器是至少四个电容器。
4.权利要求3的结构,其中,所述至少四个电容器排列为平行于衬底的矩形阵列。
5.权利要求1的结构,其进一步包括布置在线程前端电容器占地区内的衬底上并具有第一和第二端子的垂直原生电容器,其中,第一端口电连接到垂直原生电容器第一端子,并且第二端口电连接到垂直原生电容器第二端子。
6.权利要求1的结构,其中,第一和第二极板中的每一个由相同的材料形成。
7.权利要求6的结构,其中,所述极板是金属或多晶硅。
8.权利要求6的结构,其中,所述介电材料具有大于4的磁导率值。
9.一种用于形成半导体芯片电容电路的方法,其包括步骤:
形成线程前端衬底结构;
接近于衬底来安装至少两个电容器,其中,每个电容器具有被介电材料隔开的第一和第二导电极板,并且其中,每个第二导电极板安装得平面地接近所述衬底至足以具有大于每个第一导电极板的非本征电容的与所述衬底之间的第二极板非本征电容;
通过第一端口电路将所述第一极板的一半和所述第二极板的一半连接到第一端口,其中,第一端口具有来自于所述第二极板的一半的第一端口复合非本征电容;
通过第二端口电路将所述第一极板的剩余的一半和所述第二极板的剩余的一半连接到第二端口,其中,第二端口具有来自于所述第二极板的剩余的一半的第二端口复合非本征电容,第二端口复合非本征电容等于第一端口复合非本征电容;
在衬底中提供具有第一和第二端子的线程前端电容器;
线程前端电容器限定衬底占地区;
将第一端口电连接到线程前端电容器结构第一端子;
将第二端口电连接到线程前端电容器结构第二端子;以及
将所述至少两个电容器布置在线程前端电容器占地区内的衬底上。
10.权利要求9方法,其中所述至少两个电容器是金属-绝缘体-金属电容器,其进一步包括将所述至少两个电容器置于线程后端半导体电容器电路中的步骤。
11.权利要求9的方法,其中,所述至少两个电容器是至少四个电容器。
12.权利要求11的方法,其进一步包括将所述至少四个电容器布置为平行于衬底的矩形阵列的步骤。
13.权利要求9的方法,其进一步包括步骤:
将垂直原生电容器布置在线程前端电容器占地区内的衬底上,该垂直原生电容器具有第一和第二端子;
将第一端口电连接到垂直原生电容器第一端子;以及
将第二端口电连接到垂直原生电容器第二端子;以及
14.权利要求9的方法,其中,第一和第二极板中的每一个由相同的材料形成。
15.权利要求14的方法,其中,所述极板是金属或多晶硅。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司,未经国际商业机器公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780010765.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造