[发明专利]低摩擦滑动机构无效
| 申请号： | 200780010825.X | 申请日： | 2007-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN101410640A | 公开（公告）日： | 2009-04-15 |
| 发明（设计）人： | 琼·米歇尔·马丁;加纳真;佐川円;渡边正彦 | 申请（专利权）人： | 日产自动车株式会社;琼·米歇尔·马丁 |
| 主分类号： | F16C33/10 | 分类号： | F16C33/10;F16C33/24;C10M105/12;C10M105/24;C10M107/36;C10N30/06;C10N40/04;C10N40/18;C10N40/25 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 摩擦 滑动 机构 | ||
1.一种低摩擦滑动机构，其包含各自具有硬碳薄膜的滑动构件和含甘油的润滑剂，在该滑动构件之间形成滑动面，该含甘油的润滑剂存在于该滑动面。
2.一种低摩擦滑动机构，其包含各自具有硬碳薄膜的滑动构件和含羟基的润滑剂，在该滑动构件之间形成滑动面，该含羟基的润滑剂存在于该滑动面，
其中，在机油存在下，在钢之间的滑动面处显示摩擦系数0.1至0.14的边界润滑下的滑动接触条件中显示小于0.02的摩擦系数。
3.根据权利要求1或2所述的低摩擦滑动机构，其中该硬碳薄膜为由无定形碳(a-C)和/或四面体碳(ta-C)形成的类金刚石碳薄膜。
4.根据权利要求1至3任一项所述的低摩擦滑动机构，其中该硬碳薄膜具有在10g载荷下以显微维氏硬度计的1500至5000Hv的硬度。
5.根据权利要求1至4任一项所述的低摩擦滑动机构，其中该硬碳薄膜具有在10g载荷下以显微维氏硬度计的2000至3500Hv的硬度。
6.根据权利要求1至5任一项所述的低摩擦滑动机构，其中该硬碳薄膜具有膜厚度0.3至2.0μm。
7.根据权利要求1至6任一项所述的低摩擦滑动机构，其中该硬碳薄膜具有膜厚度0.5至1.5μm。
8.根据权利要求2至7任一项所述的低摩擦滑动机构，其中该含羟基的润滑剂为醇的一种。
9.根据权利要求2至8任一项所述的低摩擦滑动机构，其中该含羟基的润滑剂为甘油。
10.根据权利要求1至9任一项所述的低摩擦滑动机构，其中氢基团和氢基团彼此面对以在滑动面处形成摩擦膜的滑动界面。
11.根据权利要求10所述的低摩擦滑动机构，其中该氢基团为润滑油的一部分。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产自动车株式会社;琼·米歇尔·马丁，未经日产自动车株式会社;琼·米歇尔·马丁许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780010825.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：设置有具备天线功能的导电元件的衬底
- 下一篇：包含双胍的脂质体
