[发明专利]微波等离子体CVD系统无效

专利信息
申请号: 200780011115.9 申请日: 2007-01-29
公开(公告)号: CN101410549A 公开(公告)日: 2009-04-15
发明(设计)人: 植田晓彦;目黑贵一;山本喜之;西林良树;今井贵浩 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: C23C16/511 分类号: C23C16/511;C30B29/04;H01L21/205
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 林月俊;安 翔
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 微波 等离子体 cvd 系统
【权利要求书】:

1.一种微波等离子体CVD装置,至少包括:

真空腔,其具有用于导入微波的开口部;

波导,其用于将所述微波导入至所述开口部;

介电窗,其用于将所述微波导入至所述真空腔内;

天线部,其末端上形成有电极部,该天线部用于将微波导入至所述真空腔内;以及

基材支持台,其用于支持所述真空腔内的基材,

所述介电窗夹持在所述真空腔的内表面与所述电极部之间,

其中,

所述电极部的端面形成为宽于所述介电窗的端面,使得介电窗被遮蔽,

在所述电极部的面对该真空腔的中心的表面中形成凹部,并且

所述凹部在面对所述真空腔中心的表面处的直径处于导入的微波的1/3至5/3波长范围内,且所述凹部从面对所述真空腔中心的表面到所述凹部的最深部的深度处于导入的微波的1/20至3/5波长范围内。

2.如权利要求1所述的微波等离子体CVD装置,其中,所述凹部的表面为扁球形。

3.如权利要求1所述的微波等离子体CVD装置,其中,所述凹部的表面为球形。

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