[发明专利]使用软光刻法形成纳米级特征的方法

权利要求书

1.一种方法，其包括：

在可模塑的聚合物组合物中形成包括至少一个纳米级特征的图案，和

将所述图案的至少一部分配置成与第一衬底邻近。

2.权利要求1的方法，其中形成包括所述至少一个纳米级特征的图案包括在第二衬底上形成至少一个纳米级特征。

3.权利要求2的方法，其中在第二衬底上形成所述至少一个纳米级特征包括在第二衬底上形成至少一个单壁碳纳米管。

4.权利要求2的方法，其中形成所述图案包括对第二衬底浇铸第一可固化组合物。

5.权利要求4的方法，其中对第二衬底浇铸第一可固化组合物包括对第二衬底浇铸包含硅氧烷的第一可固化组合物。

6.权利要求4的方法，其中形成所述图案包括使第一可固化组合物至少部分固化。

7.权利要求4的方法，其中形成所述图案包括对所述至少部分固化的第一可固化组合物浇铸第二可固化组合物。

8.权利要求7的方法，其中对所述至少部分固化的第一可固化组合物浇铸第二可固化组合物包括对所述至少部分固化的第一可固化组合物浇铸包含硅氧烷的第二可固化组合物。

9.权利要求7的方法，其中形成所述图案包括使第一和第二可固化组合物固化。

10.权利要求1的方法，其中形成所述图案包括形成与所述至少一个纳米级特征接近的至少一个微米级特征。

11.权利要求10的方法，其中形成所述图案包括形成与所述至少一个纳米级特征接近的所述至少一个微米级特征，以使得流体能够从所述至少一个微米级特征流到所述至少一个纳米级特征。

12.权利要求10的方法，其中形成所述至少一个微米级特征包括形成至少一个微通道。

13.权利要求10的方法，其中形成所述至少一个微米级特征包括在第二衬底上形成至少一个微米级特征。

14.权利要求1的方法，其中将图案的所述部分配置成与第一衬底邻近包括将图案从第二衬底上取走并将图案的所述部分配置成与第一衬底邻近。

15.权利要求14的方法，其中将图案的所述部分配置成与第一衬底邻近包括将图案的所述部分配置成与第一衬底邻近，以使得流体被基本上限制为在该图案内流动。

16.一种装置，其包括：

第一衬底；和

在可模塑的聚合物组合物中包括至少一个纳米级特征的图案，所述图案被配置成与第一衬底邻近。

17.权利要求16的装置，其中所述至少一个纳米级特征与在第二衬底上形成的至少一个单壁碳纳米管相对应。

18.权利要求17的装置，其中所述图案包括第一固化的组合物。

19.权利要求18的装置，其中所述第一固化的组合物包含h-PDMS。

21.权利要求18的装置，其中所述图案包括第二固化的组合物。

22.权利要求21的装置，其中所述第二固化的组合物包含s-PDMS。

23.权利要求16的装置，其中所述图案包括与所述至少一个纳米级特征邻近的至少一个微米级特征。

24.权利要求23的装置，其中所述图案包括与所述至少一个纳米级特征邻近的所述至少一个微米级特征，以使得流体能够从所述至少一个微米级特征流到所述至少一个纳米级特征。

25.权利要求23的装置，其中所述至少一个微米级特征包括至少一个微通道。

26.权利要求16的装置，其中所述图案被配置成与第一衬底邻近，以使得流体被基本上限制为在该图案内流动。

27.流体传输系统，其包括：

第一衬底；

在可模塑的聚合物组合物中包括至少一个纳米级特征的分子膜，所述分子膜被配置成与第一衬底邻近；和

用于为分子膜提供流体的多个微米级通道。

28.权利要求27的系统，其中所述至少一个纳米级特征与在第二衬底上形成的至少一个单壁碳纳米管相对应。