[发明专利]负性光致抗蚀剂组合物有效

专利信息
申请号: 200780011420.8 申请日: 2007-03-28
公开(公告)号: CN101410756A 公开(公告)日: 2009-04-15
发明(设计)人: G·帕夫洛夫斯基;陈春伟;J·奥伯兰德;R·普拉斯 申请(专利权)人: AZ电子材料美国公司
主分类号: G03F7/027 分类号: G03F7/027;G03F7/033
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王 健
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 负性光致抗蚀剂 组合
【权利要求书】:

1.负性光致抗蚀剂组合物,包含:

a)至少一种碱溶性聚合物,其中该聚合物包含至少一种结构(I) 的单元,

其中R′独立地选自氢、C1-C4烷基、氯和溴,m是1-4的整数;

b)至少一种结构(II)的单体;

其中W是C(R10R11)-(C1-C20)亚烷基-C(R12R23),其中R10、R11、 R12和R13独立地选自(C1-C5)烷基,R1-R6独立地选自氢、羟基、C1-C20烷基和氯,X1和X2独立地是氧,并且n=1;

c)至少一种光引发剂,以及

光酸产生剂,

并且,此外其中该碱溶性聚合物还包含酸可裂解基团,以及结构 (II)的单体包含酸可裂解基团。

2.根据权利要求1的组合物,其中所述碱溶性聚合物中的酸可裂 解基团的酸可裂解键选自酸可裂解的C(O)-O-C、C-O-C和C-O-Si 键。

3.根据权利要求1-2中任一项的组合物,其中结构(I)的单元衍 生自选自3-羟基苯乙烯、4-羟基苯乙烯、3-甲基-4-羟基苯乙烯、3,5- 二甲基-4-羟基苯乙烯和3,5-二溴-4-羟基苯乙烯的单体。

4.根据权利要求1的组合物,其中该碱溶性聚合物还包含至少一 种附加的单体单元。

5.根据权利要求4的组合物,其中该附加的单体单元衍生自选自 (甲基)丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸正丁基酯、甲基丙烯酸苯基酯、甲 基丙烯酸苄基酯、苯乙烯、具有酸可裂解基团的羟基苯乙烯、具有酸 可裂解基团的烯属共聚单体和具有酸可裂解基团的降冰片烯衍生物的 单体。

6.根据权利要求1的组合物,其中结构(II)的化合物是二(甲 基)丙烯酸酯单体。

7.根据权利要求1的组合物,其中该光引发剂是1-羟基环己基苯 基甲酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮、双(2,4,6-三甲基苯甲 酰基)苯基氧化膦、1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-2-羟基-2-甲基-1- 丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)丁酮、2-甲基 -1-[4-(甲基硫)苯基]-2-吗啉代丙-1-酮和2-羟基-2-甲基-1-苯基 丙-1-酮中的至少一种。

8.根据权利要求1的组合物,还包含辅助聚合物。

9.根据权利要求8的组合物,其中该辅助聚合物选自含未取代或 取代的(甲基)丙烯酸的聚合物,含未取代或取代的(甲基)丙烯酸 酯的聚合物,含未取代或取代的乙烯基酯的聚合物,含未取代或取代 的乙烯基芳烃的聚合物,(甲基)丙烯酸-苯乙烯共聚物和酚醛清漆聚 合物。

10.权利要求1的组合物,其中该组合物形成厚度为2μm-200μm 的膜。

11.负性光致抗蚀剂组合物,包含:

a)至少一种碱溶性聚合物,其中该聚合物包含酸不稳定基团和至 少一种结构(I)的单元,

其中R′独立地选自氢、C1-C4烷基、氯和溴,m是1-4的整数;

b)至少一种选自2,5-二甲基-2,5-己二醇二(甲基丙烯酸酯)和 2,5-二甲基-2,5-己-3-炔-二醇二(甲基丙烯酸酯)的单体,

c)至少一种光引发剂,以及

光酸产生剂。

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