[发明专利]具有增强灵敏度的压力传感器无效

专利信息
申请号: 200780011746.0 申请日: 2007-04-06
公开(公告)号: CN101416038A 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: C·E·斯图尔特;P·G·汉库克 申请(专利权)人: 霍尼韦尔国际公司
主分类号: G01L9/00 分类号: G01L9/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张雪梅;王丹昕
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 增强 灵敏度 压力传感器
【权利要求书】:

1、一种方法,包括:

获得包括顶部和底部的衬底;

在顶部中形成扩散区;

在顶部上形成外延层使得扩散区扩展到外延层中;

形成结隔离以在扩散区的至少一个上产生至少一个晶体管区;

在晶体管区的至少一个中形成至少一个双极性晶体管,其中,每个双极性晶体管包括基极、发射极和集电极;以及

蚀刻背面以形成复合隔膜,由此同时产生晶体管和复合隔膜。

2、权利要求1的方法,其中,所述至少一个双极性晶体管中的至少一个为npn双极性晶体管。

3、权利要求1的方法,其中,所述至少一个双极性晶体管中的至少一个为pnp双极性晶体管。

4、权利要求1的方法,其中,所述衬底为p型衬底,所述外延层为n型外延层,且其中,所述扩散区为n型扩散区。

5、权利要求4的方法,其中,所述至少一个双极性晶体管中的至少一个为npn双极性晶体管,且其中,形成npn双极性晶体管包括:

形成p型材料的基极;以及

形成集电极和发射极,其中,集电极和发射极包含n型材料,且其中,发射极包含在基极内的大量n型材料。

6、权利要求4的方法,其中,所述至少一个双极性晶体管中的至少一个为pnp双极性晶体管,且其中,形成pnp双极性晶体管包括:

形成p型材料的集电极和发射极;以及

形成n型材料的基极。

7、一种方法,包括:

获得包括顶部和底部的衬底;

在顶部中形成扩散区;

在顶部上形成外延层使得扩散区扩展到外延层中;

形成至少两个引出部;

形成结隔离以在扩散区的至少一个上产生至少一个晶体管区;

形成包括本体、第一端和第二端的至少一个压敏电阻器,其中,第一端电连接于第一引出部,且第二端电连接于第二引出部;

在晶体管区的至少一个中形成至少一个双极性晶体管,其中,每个双极性晶体管包括基极、发射极和集电极;以及

蚀刻背面以形成复合隔膜,由此同时产生晶体管、压敏电阻器和复合隔膜。

8、权利要求7的方法,其中,所述至少一个双极性晶体管中的至少一个为npn双极性晶体管。

9、权利要求7的方法,其中,所述至少一个双极性晶体管中的至少一个为pnp双极性晶体管。

10、权利要求7的方法,其中,所述衬底为p型衬底,所述外延层为n型外延层,且其中,所述扩散区为n型扩散区。

11、权利要求10的方法,其中,所述至少一个双极性晶体管中的至少一个为npn双极性晶体管,且其中,形成npn双极性晶体管包括:

形成p型材料的基极;以及

形成集电极和发射极,其中,集电极和发射极包含n型材料,且其中,发射极包含在基极内的大量n型材料。

12、权利要求10的方法,其中,所述至少一个双极性晶体管中的至少一个为pnp双极性晶体管,且其中,形成pnp双极性晶体管包括:

形成p型材料的集电极和发射极;以及

形成n型材料的基极。

13、权利要求7的方法,其中,形成至少一个压敏电阻器包括,在外延层中形成p型扩散。

14、一种系统,包括:

包括顶部和底部的衬底;

在顶部上的外延层和在顶部内的扩散区,其中,扩散区延伸到外延层中;

结隔离,其包围扩散区中的至少一个以产生晶体管区;

至少一个压敏电阻器,其包括本体、第一端和第二端,其中,第一端电连接于第一引出部,第二端电连接于第二引出部;

在晶体管区的至少一个内的至少一个双极性晶体管,其中,每个双极性晶体管包括基极、发射极和集电极;以及

在背面中蚀刻的通道,用以形成复合隔膜。

15、权利要求14的系统,其中,所述至少一个双极性晶体管中的至少一个为npn双极性晶体管。

16、权利要求14的系统,其中,所述至少一个双极性晶体管中的至少一个为pnp双极性晶体管。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于霍尼韦尔国际公司,未经霍尼韦尔国际公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780011746.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top