[发明专利]用于微构造存储介质的设备和方法以及包括微构造区域的存储介质

权利要求书

1.一种用于微构造存储介质(2)的设备，包括：

-用于生成电磁辐射的至少部分相干光束的辐射源(4)，

-具有多个单独可切换调制器单元的调制器(6)，

-用于照射所述调制器(6)的光束成形光学单元(8)，

-用于缩减由所述调制器(6)发射的光束的缩减光学单元(10)，

-用于将相位调制转换成强度调制的装置，以及

-用于相对于所述缩减光学单元(10)来移动所述存储介质(2)的传送设备(12)，

其特征在于：

-以限制衍射的方式形成所述缩减光学单元(10)，以及

-所述缩减光学单元(10)产生相对于所述单独可切换调制器单元的面积至少面积缩减因子为25的面积缩减。

2.如权利要求1所述的设备，其特征在于：

所述用于将相位调制转换成强度调制的装置为空间频率滤波器。

3.如权利要求1所述的设备，其特征在于：

所述缩减光学单元的面积缩减因子在25与1000之间。

4.如权利要求3所述的设备，其特征在于：

所述缩减光学单元的面积缩减因子在50与1000之间。

5.如权利要求4所述的设备，其特征在于：

所述缩减光学单元的面积缩减因子是250。

6.如权利要求1至5中任一权利要求所述的设备，其特征在于：

所述缩减光学单元(10)将各调制器单元所衍射的辐射强度缩减到直径小于10μm的大小。

7.如权利要求6所述的设备，其特征在于：

所述缩减光学单元(10)将各调制器单元所衍射的辐射强度缩减到直径小于1μm的大小。

8.如权利要求1至5中任一权利要求所述的设备，其特征在于：

所述辐射源(4)形成为激光器。

9.如权利要求8所述的设备，其特征在于：

所述辐射源(4)形成为脉冲式激光器。

10.如权利要求8所述的设备，其特征在于：

所述激光器(4)生成单模激光束。

11.如权利要求8所述的设备，其特征在于：

所述激光器(4)生成具有部分相干的多模激光束。

12.如权利要求1至5中任一权利要求所述的设备，其特征在于：

所述调制器(6)是包括分别可切换调制器单元的单线式光调制器。

13.如权利要求1至5中任一权利要求所述的设备，其特征在于：

所述调制器(6)是包括分别可切换调制器单元的二维光调制器。

14.如权利要求1至5中任一权利要求所述的设备，其特征在于：

以限制衍射的方式形成所述光束成形光学单元(8)。

15.如权利要求1至5中任一权利要求所述的设备，其特征在于：

所述光束成形光学单元(8)根据由所述辐射源(4)生成的光束分布状态来生成与所述调制器(6)的面积适配的光束分布状态。

16.如权利要求15所述的设备，其特征在于：

所述光束成形光学单元(8)具有鲍威尔透镜(24)。

17.如权利要求1至5中任一权利要求所述的设备，其特征在于：

所述缩减光学单元(10)具有显微镜物镜(36)。

18.如权利要求1至5中任一权利要求所述的设备，其特征在于：

所述缩减光学单元(10)具有焦距和/或数值孔径不同的至少两个物镜。

19.如权利要求1至5中任一权利要求所述的设备，其特征在于：

所述装置为在傅立叶平面(37)中的或者附近的空间频率滤波器，所述空间频率滤波器与所述缩减光学单元(10)组合。

20.如权利要求1至5中任一权利要求所述的设备，其特征在于：

所述传送设备形成为传送台(12)可调节。

21.如权利要求20所述的设备，其特征在于：

所述传送设备形成为传送台(12)在一个轴上可调节。