[发明专利]光学用膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200780011945.1 申请日: 2007-04-04
公开(公告)号: CN101416084A 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: 高木雅人;丹羽宏和 申请(专利权)人: 株式会社日本触媒
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;B29K33/00;B29C47/14;B29L7/00;G02B1/04;B29L11/00
代理公司: 北京邦信阳专利商标代理有限公司 代理人: 黄泽雄;崔 华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及光学用膜及其制造方法,特别是涉及异物含量少的光学用膜及其制造方法。 

背景技术

以聚甲基丙烯酸甲酯(以下表示为“PMMA”)为代表的丙烯酸类树脂,作为光学性能优异,并且具有高光线透过率、低双折射率和低相位差的光学各向同性材料,一直适用于各种光学材料。近年来,随着液晶显示装置、等离子体显示器和有机EL显示装置等平板显示器以及红外线传感器、光波导路等的进步,对光学用透明高分子材料的耐热性要求不断提高,因此即使对于丙烯酸类树脂,也要求其耐热性高。 

作为具有耐热性的丙烯酸类树脂(以下称为“耐热丙烯酸类树脂”),已知有通过使分子链中具有羟基和酯基的聚合物进行内酯环化缩合反应而得到的含内酯环聚合物(例如,参见专利文献1、2、3、4),以及共聚马来酰亚胺而得到的马来酰亚胺类共聚物(例如,参见专利文献5)。在使用挤出机熔融挤出这些耐热丙烯酸类树脂,并成型为膜时,通常可以使用单轴挤出机。 

专利文献1:日本公开特许公报“特开2000-230016号公报” 

专利文献2:日本公开特许公报“特开2001-151814号公报” 

专利文献3:日本公开特许公报“特开2002-120326号公报” 

专利文献4:日本公开特许公报“特开2002-254544号公报” 

专利文献5:日本公开特许公报“特开平09-324016号公报” 

然而,这些耐热丙烯酸类树脂的可挤出熔融粘度,比一般的丙烯酸类树脂温度高,并且接近于树脂分解的温度,因此,由于树脂的劣化而产生较多的碳化物等杂质。此外,为了减少杂质,而降低温度时,则存在有产生较多因树脂溶解而残留的鱼眼的问题。也就是说,在熔融挤出耐热丙烯酸类树脂并成型为膜(以下称为“光学用膜”)的情况下,在高温下熔融时或者在低 温下熔融时,杂质或者鱼眼等异物都对膜的外观或物性产生了恶性影响,因此无法得到外观和物性两者都优异的光学用膜。 

发明内容

本发明鉴于上述问题而完成,其目的在于提供一种异物含量少,并且物性和外观都优异的光学用膜及其制造方法。 

如上所述,在以往的技术中,无法得到外观和物性两者都优异的光学用膜。因此,本发明者进行了积极研究,结果发现通过使用屏障螺纹型螺杆或者带混合段的螺杆作为挤出机的螺杆,并将挤出机的一部分部件的温度保持在不到规定温度,可以在低温下进行塑化和混炼,而且减少了劣化异物的残存量,并由此完成本发明。 

即,本发明的光学用膜,其具有丙烯酸类树脂,该树脂的玻璃转变温度为110℃以上200℃以下,同时,当剪切速度为100(1/s)时,该树脂在树脂温度为270℃下的粘度为250Pa·s以上1000Pa·s以下,其中,上述光学用膜的杂质含量为10个/m2以下。 

根据上述构成,本发明的光学用膜,由于其丙烯酸类树脂的玻璃转变温度为110℃以上200℃以下,因此具有足够的耐热性。此外,由于当剪切速度为100(1/s)时,在树脂温度为270℃下的丙烯酸类树脂粘度为250Pa·s以上1000Pa·s以下,因此对于通过熔融挤出等方法形成光学用膜,具有足够的机械强度。因此,可以提供物性优异的光学用膜。 

此外,上述光学用膜,由于其杂质含量少至10个/m2以下,因此认为作为原料的丙烯酸类树脂的分解劣化非常少。从而,起因于丙烯酸类树脂分解劣化的着色等极少,因此可以提供外观上也优异的光学用膜。 

此外,本发明的光学用膜,进一步优选其挥发性有机物的含量为1000ppm以下。挥发性有机物,因丙烯酸类树脂部分分解劣化而产生,并且对光学用膜的外观产生了恶性影响,但根据上述构成,挥发性有机物的含量非常少,因此可以提供外观优异的光学用膜。 

此外,本发明的光学用膜,其中上述丙烯酸类树脂优选包含具有内酯环结构的聚合物。具有内酯环结构的聚合物,由于其环化缩合反应率高,因此可以防止向成型品中混入气泡或银纹。此外,还具有起因于内酯环结构的高 耐热性。因此,可以提供外观和耐热性更优异的光学用膜。 

本发明光学用膜的制造方法,其中,使用具有屏障螺纹型螺杆的挤出机,将该挤出机的机筒和模头的温度设定为不到丙烯酸类树脂的玻璃转变温度+145℃的温度,并通过熔融挤出法成型丙烯酸类树脂。 

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