[发明专利]用于化学气相沉积或原子层沉积的化学物输送装置

权利要求书

1.一种安瓿组件，包括：

安瓿；

用于所述安瓿的输入管路，所述输入管路中设置有第一截止阀，其中所述第一截止阀设置在所述安瓿和第一旁通管路与所述输入管路的连接点之间；

用于所述安瓿的输出管路，所述输出管路中设置有第二截止阀，其中所述第二截止阀设置在所述安瓿和所述第一旁通管路与所述输出管路的连接点之间；

第三截止阀，设置在所述输入管路中并位于所述第一截止阀和所述安瓿之间；以及

第四截止阀，设置在所述输出管路中并位于所述第二截止阀和所述安瓿之间，

其中所述第一旁通管路连接在所述输入管路和所述输出管路之间，所述第一旁通管路中设置有用以流体耦合或去耦合所述输入管路和所述输出管路以便可操作地允许所述输入管路与所述输出管路之间的流体流动的旁通截止阀。

2.根据权利要求1所述的安瓿组件，其特征在于，所述旁通截止阀是远程可控截止阀。

3.根据权利要求1所述的安瓿组件，其特征在于，所述安瓿包括：

至少一层第一材料层；以及

至少一层第二材料层，

其中所述第一材料是导热率基本高于所述第二材料的材料。

4.根据权利要求3所述的安瓿组件，其特征在于，所述至少一层第一材料层是在所述至少一层第二材料层的外表面上的涂层。

5.根据权利要求3所述的安瓿组件，其特征在于，所述第一材料选自包含铝、铜、银、黄铜及其组合的金属。

6.根据权利要求4所述的安瓿组件，其特征在于，所述涂层的厚度在1微米到5毫米之间。

7.根据权利要求1所述的安瓿组件，其特征在于，还包括：

在所述输入管路和所述输出管路之间连接的第二旁通管路，所述第二旁通 管路中设置有用以流体耦合或去耦合所述输入管路和所述输出管路的第二旁通截止阀，其中：

所述第一截止阀设置在所述第一旁通管路与所述输入管路的所述连接点和所述第二旁通管路与所述输入管路的连接点之间；以及

所述第二截止阀设置在所述第一旁通管路与所述输出管路的所述连接点和所述第二旁通管路与所述输出管路的连接点之间。

8.一种用于化学气相沉积腔室的安瓿组件，包括：

安瓿，所述安瓿包括至少一层第一材料层以及至少一层第二材料层；

用于所述安瓿的输入管路；

用于所述安瓿的输出管路；

在所述输入管路和所述输出管路之间连接的旁通管路，所述旁通管路中设置有用以流体耦合或去耦合所述输入管路和所述输出管路以便可操作地允许所述输入管路与所述输出管路之间的流体流动的旁通阀；

第一截止阀，设置在所述输入管路中并位于所述安瓿和所述旁通管路与所述输入管路的连接点之间；

第二截止阀，设置在所述输出管路中并位于所述安瓿和所述旁通管路与所述输出管路的连接点之间；

第三截止阀，设置在所述输入管路中并位于所述旁通管路和所述安瓿之间；以及

第四截止阀，设置在所述输出管路中并位于所述旁通管路和所述安瓿之间，

其中所述第一材料是导热率基本高于所述第二材料的材料。

9.根据权利要求8所述的安瓿组件，其特征在于，所述旁通阀、所述第三截止阀和所述第四截止阀都是远程可控截止阀。

10.根据权利要求9所述的安瓿组件，其特征在于，所述第一截止阀设置在所述输入管路中并位于远程可控的所述第三截止阀和所述旁通管路之间，并且所述第二截止阀设置在所述输出管路中并位于远程可控的所述第四截止阀和所述旁通管路之间。

11.根据权利要求8所述的安瓿组件，其特征在于，还包括：

在所述输入管路和所述输出管路之间连接的第二旁通管路；以及 

远程可控的第二旁通阀，设置在所述第二旁通管路中，以流体耦合或去耦合所述输入管路和所述输出管路，

其中：

所述第一截止阀设置在第一旁通管路与所述输入管路的连接点和所述第二旁通管路与所述输入管路的连接点之间；以及

所述第二截止阀设置在所述第一旁通管路与所述输出管路的连接点和所述第二旁通管路与所述输出管路的连接点之间。

12.根据权利要求8所述的安瓿组件，其特征在于，所述安瓿包含化学物。