[发明专利]离子注入装置

权利要求书

1.一种离子注入装置，具备：离子源，使包含应注入基板的所希望离子种的等离子体发生；引出电极系统，从该离子源的等离子体中引出包含上述所希望的离子种的剖面长方形状的离子束；质量分离电磁铁，使引出的上述离子束向其厚度方向一侧弯曲并质量分离，导出包含所希望的离子种的离子束；以及分离狭缝，接收来自该质量分离电磁铁的离子束，分选上述所希望的离子并使其通过，其中，使通过了上述分离狭缝的离子束照射基板进行离子注入，该离子注入装置其特征在于，

上述分离狭缝包括：在上述离子束的厚度方向的两侧有间隔地相向配置的第一狭缝和第二狭缝，第一狭缝和第二狭缝包括在上述离子束的宽度方向上分割为多个的小狭缝，各小狭缝以在上述宽度方向上邻接的该各小狭缝之间不形成离子束通过的缝隙的方式配置，各小狭缝以在上述厚度方向上能够相互独立地移动的方式构成，

使离子束通过的分离狭缝的缝隙形状以可变的方式构成。

2.根据权利要求1所述的离子注入装置，其特征在于，

具备：可变狭缝，配置在上述引出电极系统和上述质量分离电磁铁之间，形成上述离子束通过的缝隙，该可变狭缝以遮蔽从上述离子源引出的离子束的一部分的方式可变地构成可变狭缝的缝隙形状。

3.一种离子注入装置，具备：离子源，使包含应注入基板的所希望离子种的等离子体发生；引出电极系统，从该离子源的等离子体中引出包含上述所希望的离子种的剖面长方形状的离子束；质量分离电磁铁，使引出的上述离子束向其厚度方向一侧弯曲并质量分离，导出包含所希望的离子种的离子束；以及分离狭缝，接收来自该质量分离电磁铁的离子束，分选上述所希望的离子并使其通过，其中，使通过了上述分离狭缝的离子束照射基板进行离子注入，该离子注入装置其特征在于，

具备：可变狭缝，配置在上述引出电极系统和上述质量分离电磁铁之间，形成上述离子束通过的缝隙，该可变狭缝以遮蔽从上述离子源引出的离子束的一部分的方式可变地构成可变狭缝的缝隙形状，

上述可变狭缝包括：在上述离子束的厚度方向的两侧有间隔地相向配置的第一狭缝和第二狭缝，第一狭缝和第二狭缝包括在上述离子束的宽度方向上分割为多个的小狭缝，各小狭缝以在上述厚度方向上能够相互独立地移动的方式构成。

4.根据权利要求1所述的离子注入装置，其特征在于，具备：

束剖面图监视器，配置在与上述质量分离电磁铁相比离子束行进方向的下游侧，接收上述离子束并对该离子束的剖面形状进行测定；

离子监视器，配置在上述分离狭缝的离子束行进方向的下游侧，接收通过了分离狭缝的离子束并对该离子束中包含的离子种的种类及其比例进行测定；以及

控制装置，能独立地控制上述多个小狭缝的每个的工作，基于来自上述束剖面图监视器和上述离子监视器的测定信息，以能得到所希望的质量分离分辨能力的方式控制上述各小狭缝。

5.根据权利要求2或者3所述的离子注入装置，其特征在于，具备：

束剖面图监视器，配置在与上述质量分离电磁铁相比离子束行进方向的下游侧，接收上述离子束并对该离子束的剖面形状及电流密度分布进行测定；以及

控制装置，能独立地控制上述多个小狭缝的每个的工作，基于来自上述束剖面图监视器的测定信息，预测上述可变狭缝接收的离子束中在通过了上述质量分离电磁铁后电流密度相对变高的部分，通过在与预测的部分相当的位置上配置的各小狭缝，以遮蔽离子束的一部分的方式控制上述各小狭缝。