[发明专利]用于控制暴露于氧的组合物

权利要求书

1.一种氧清除组合物，所述组合物包含：

A.具有小于5个脂族碳-碳双键/100个共聚单体单元的聚合物；

B.可氧化的金属；和

C.具有选自抗坏血酸根、硝酸根、柠檬酸根、葡糖酸根和乳酸根阴离子的阴离子的亚铁盐及其混合物，其中所述亚铁盐于25℃下在水中的溶解度为至少1g/100g水。

2.权利要求1的氧清除组合物，其中所述可氧化的金属选自铁、铜、锰和钴。

3.权利要求2的氧清除组合物，其中所述可氧化的金属为铁。

4.权利要求1的氧清除组合物，其中所述聚合物选自聚酰胺、聚酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚乙酸乙烯酯、聚氯乙烯、聚烯烃均聚物和共聚物、乙烯与极性共聚单体的共聚物、乙烯丙烯酸共聚物的离聚物、乙烯甲基丙烯酸共聚物的离聚物和乙烯马来酸共聚物的离聚物。

5.权利要求1的氧清除组合物，其中所述聚合物为热塑性树脂。

6.权利要求1的氧清除组合物，所述组合物还包含选自有机酸的盐和无机酸的盐的电解质，其中所述盐的阳离子选自碱金属阳离子、碱土金属阳离子、不同于亚铁离子的过渡金属阳离子、季铵阳离子和季鏻阳离子及其混合物，且其中所述电解质于25℃下在水中的溶解度为至少1g/100g水。

7.权利要求1的氧清除组合物，其中所述亚铁盐选自柠檬酸亚铁、葡糖酸亚铁、乳酸亚铁及其混合物。

8.权利要求1的氧清除组合物，所述组合物还包含不同于组分A的聚合物的其他聚合物，所述其他聚合物选自具有小于5个脂族碳-碳双键/100个共聚单体单元的聚合物。

9.一种层压材料，所述层压材料包含：

A.第一层，所述第一层包含：

1.具有小于5个脂族碳-碳双键/100个共聚单体单元的聚合物；

2.可氧化的金属；和

3.具有选自抗坏血酸根、硝酸根、柠檬酸根、葡糖酸根和乳酸根阴离子的阴离子的亚铁盐及其混合物，其中所述亚铁盐于25℃下在水中的溶解度为至少1g/100g水；和

B.至少一层其他层。

10.权利要求9的层压材料，其中所述层压材料的至少一层其他层包含热塑性聚合物。

11.权利要求10的层压材料，其中所述至少一层其他层的热塑性聚合物选自聚丙烯、聚乙烯和乙烯乙烯醇。

12.一种单层薄膜，所述单层薄膜包含至少一种具有小于5个脂族碳-碳双键/100个共聚单体单元的聚合物、可氧化的金属和具有选自抗坏血酸根、硝酸根、柠檬酸根、葡糖酸根和乳酸根阴离子的阴离子的亚铁盐及其混合物，其中所述亚铁盐于25℃下在水中的溶解度为至少1g/100g水。

13.一种制品，所述制品包含至少一种具有小于5个脂族碳-碳双键/100个共聚单体单元的聚合物、可氧化的金属和具有选自抗坏血酸根、硝酸根、柠檬酸根、葡糖酸根和乳酸根阴离子的阴离子的亚铁盐及其混合物，其中所述亚铁盐于25℃下在水中的溶解度为至少1g/100g水。

14.一种氧清除组合物，所述组合物基本上由以下物质组成：

A.具有小于5个脂族碳-碳双键/100个共聚单体单元的聚合物；

B.可氧化的金属；和

C.硫酸亚铁盐，

所述组合物基本不含卤化物盐。

15.权利要求14的氧清除组合物，其中所述可氧化的金属选自铁、铜、锰和钴。

16.权利要求15的氧清除组合物，其中所述可氧化的金属为铁。

17.权利要求14的氧清除组合物，其中所述聚合物选自聚酰胺、聚酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚乙酸乙烯酯、聚氯乙烯、聚烯烃均聚物和共聚物、乙烯与极性共聚单体的共聚物、乙烯丙烯酸共聚物的离聚物、乙烯甲基丙烯酸共聚物的离聚物和乙烯马来酸共聚物的离聚物。

18.权利要求14的氧清除组合物，其中所述聚合物为热塑性树脂。

19.权利要求14的氧清除组合物，所述组合物还包含不同于组分A的聚合物的其他聚合物，所述其他聚合物选自具有小于5个脂族碳-碳双键/100个共聚单体单元的聚合物。