[发明专利]防滴漏的流体分配阀有效

专利信息
申请号: 200780012609.9 申请日: 2007-02-08
公开(公告)号: CN101415637A 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: G·R·阿兰森;M·A·弗里曼 申请(专利权)人: 国际分配器公司
主分类号: B67D3/00 分类号: B67D3/00
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 代理人: 胡 强;蔡民军
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 滴漏 流体 分配阀
【说明书】:

技术领域

本发明涉及流体分配装置,尤其涉及坚固耐用、相对简单、成本低廉 且容易操作的分配阀,用于从流体源中分配出流体,这种分配阀被构造成 能降低残留流体在分配操作后汇集在阀上并最终从阀上滴落的趋势,并且 能将阀及待分配流体被污染的危险降低到最低程度。

背景技术

美国专利US3,187,965、US3,263,875、US3,493,146、US3,620,425、 US4,440,316、US4,687,123、US5,918,779、US6,491,189和US6,742,680公 开了用于从流体容器、系统或其它这类流体源中分配流体的分配阀。例如, 在消费者家用的、用于分配饮料或其它液体的装置中,可以采用这样的阀。 低成本、无故障以及可靠的阀动作是在这些应用场合中主要考虑的对象。 如果阀要作为一次性用品出售,则成本低廉尤其重要,因为例如此时的阀 是以装接在流体灌装容器上并且将在流体用完后随容器一起被丢弃的方 式提供的。

不幸的是,许多现用的分配阀机构无法提供确可避免液体汇集在其表 面的分配出口,由此导致液体在阀已关闭后不期望地从分配出口流出。例 如,在分配操作过程中,来自储存容器的流体一般接触分配阀上的分配出 口的内表面。该内表面可能倾向于在分配阀使用过程中汇集液体,结果, 在流体已分配、使用者已移开杯子、玻璃器皿或其它液体盛纳容器并且已 放开分配阀操作机构之后,内表面上的汇集液体残留了下来。因此,不是 所有液体都被收集在盛纳器皿中,而是一部分的液体积聚在这样的内表面 上并且可能会在分配操作后从内表面上滴落。

此外,很多目前采用的分配阀促成在分配出口中及分配出口的周围形 成不卫生的环境。这可能要归咎于分配出口的构造,其容许分配出口和使 用者之间或者和使用者所用的盛纳器皿之间的直接接触。这种与分配出口 的直接接触造成各种细菌、病原体等可能传播至分配出口的表面。许多这 样的病原体及类似物是不容易用肉眼观察发现的并且可能逃过了分配出 口的清洁作业。这会导致这种不希望有的有机体进一步进入分配阀中,又 进入装有分配阀的容器内以及污染到容器内的液体。

在布尔盖特的美国专利US3,187,965中示出一种用于牛奶容器的分配 阀,其具有基本成一个整体的阀体,阀体的一端与牛奶容器相连接。在阀 体内部形成有L形通道,通道的一端界定出与牛奶容器相连通的入口,通 道的另一端界定出分配出口,用于在用操作按钮打开阀时将牛奶分配到容 器外。分配出口完全暴露在外界环境里,因而促成与潜在受污染的表面的 接触,而且没有采取任何措施来防止残留的未分配流体汇集在分配出口内 和/或从分配出口滴落。

如罗夫道尔的美国专利US3,263,875所示的另一种阀具有类似构造的 分配出口和操作按钮,但其也缺乏任何用于防止残留的未分配流体汇集在 分配出口内和/或从分配出口滴落的措施,并且其分配出口完全暴露在外界 环境中,因而会造成与潜在受污染的表面的接触。

同样,人们已经在商业活动中尝试提供低成本的、与一次性容器连用 的分配阀,但这样的努力只获得了有限的成功。例如,沃丁顿和杜瓦尔有 限公司提出一种与一次性容器(例如酒箱、水瓶以及洗涤液容器)连用的按 压龙头,其模型设计号为COM4452和COM4458,这两种型号的按压龙 头提供了可被按下的操作按钮,其与阀盖操作连接,用于使阀盖离开阀座 并由此通过分配出口分配出流体。与以上所举的例子一样,此分配出口完 全暴露于外界环境,因此促成与潜在受污染的表面接触,而且没有采取任 何措施来防止残留的未分配流体汇集在分配出口内和/或从分配出口滴落。

相似地,杰佛逊.斯莫非集团公司提出一种类似的、与一次性容器连用 的龙头,其型号为VITOP。杰佛逊·斯莫非集团公司的龙头结构也被设计 成使分配出口完全暴露于外界环境,因此促成与潜在受污染的表面接触, 而且没有采取任何措施来防止残留的未分配流体汇集在分配出口内和/或 从分配出口滴落。

此外,这样的阀结构被设计成在使用后未分配流体将留在阀内,在阀 座的后面并占据阀体的大部分,而且使未分配流体远离装接有此阀的容器 (同样远离储藏这类容器的任何冷冻环境)。这增大了在每次使用后如此大 量地残留在阀体内的流体发生变质的风险。另外,这种阀结构缺乏用于经 受许多流体分配应用场合所要求的高强度消毒程序的结构完整性,其中包 括暴露于高达5.0MRAD辐射量下的照射、高温水蒸汽和化学消毒程序。

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