[发明专利]制造金属氧化物薄片的方法无效
申请号: | 200780012969.9 | 申请日: | 2007-04-02 |
公开(公告)号: | CN101421360A | 公开(公告)日: | 2009-04-29 |
发明(设计)人: | R·熊;P·巴贾德 | 申请(专利权)人: | 西巴控股有限公司 |
主分类号: | C09C1/00 | 分类号: | C09C1/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 庞立志;范 赤 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 金属 氧化物 薄片 方法 | ||
本发明涉及一种制备包含至少一种电介质层的平行平面结构(片 状体或者薄片)的方法,所述的电介质层由选自元素周期表第3-15族 的一种或多种金属的氧化物组成,通过使期望的金属氧化物的前体经 受微波辐射来在基底上形成金属氧化物层,并从基底上分离所形成的 金属氧化物层来作为平行平面结构。
通过相应的盐(即,硫酸盐或卤化物)的液相分解(水解)来沉积金属 氧化物层的方法本身是已知的,并且已经用于形成光泽(luster)颜料或 者珠光(pearlescent)颜料,其具有半透明的、非反射性云母核材料。但 是,这样的方法(描述于例如US-B-3087827和US-B-5733371中)被认 为不适于在该方法所需的高酸性(pH小于4)的水溶液中形成具有反射 性金属核的效应颜料。US-B-6369147公开了一种方法,其通过选择某 些金属核和任选的赋予它们更大的耐腐蚀性的方式对它们进行处理 来解决上述问题。
使用微波能量来在用于LED装置的玻璃和氧化铟锡涂覆的玻璃 板上沉积金属氧化物膜是已知的并公开在大量的期刊论文中例如E. Vigil,L.Saadoun,Thin Solid Films 2000,365,第12-18页和E.Vigil,L. Saadoun,J.Materials Science Letters 1999,18第1067-1069页。仅仅在 氧化铟锡涂覆的玻璃板上获得了良好的粘附性,著作者认为这是因为 氧化铟锡涂层的某些给电子性能产生的(参见Vigil,E.;Ayllón,J.A.; Peiró,A.M.;Rodríguez-Clemente,R.;Domènech,X.;Peral,J.Langmuir 2001,17,891)。
通过微波辐射来本体沉积(bulk precipitation)金属氧化物粒子是公 知的。对于使用微波沉积的本体沉积氧化物来说,参见(1)Lerner,E.; Sarig,S.;Azoury,R.,Journal of Materials Science:Materials in Medicine 1991,2,138;(2)Daichuan,D.;Pinjie,H.;Shushan,D.Materials Research Bulletin,1995,30,537;(3)Leonelli,C.等人,Microwaves: Theory and Applications in Materials Processing 2001,111,321;(4) Girnus,I.等人,Zeolites 1995,15,33;(5)Rodriguez-Clemente,R.等人, Journal of Crystal Growth 1996,169,339和(6)Daichuan,D.;Pinjie,H.; Shushan,D.Materials Research Bulletin,1995,30,531。
本发明提供一种方法,其中使用微波辐射将一种或多种期望的金 属氧化物的前体转化为在基底上的金属氧化物层,在将该金属氧化物 层从基底分离之后,产生平行平面结构例如薄片,该结构包含期望的 一种或多种金属氧化物。该平行平面结构成形为薄的粒子,大约500nm 厚或以下。可以制造具有光滑的类镜表面和高长宽比的薄片并且其可 用做效应颜料(effect pigments)的基底材料。
还可经由本发明的方法,通过将可溶聚合物特别是水可溶聚合物 混入到含有金属氧化物前体的组合物中来制造多孔结构。
平行平面结构在多种应用中是有用的,包括干涉颜料(interference pigment)和效应颜料。多孔结构提供了用于多种材料例如催化剂、着 色剂、抗菌化合物等等的优异的宿主位置(host cites)。
本发明提供一种制备包含至少一种电介质层的平行平面结构(片 状体或者薄片)的方法,所述的电介质层由选自元素周期表第3-15族 的一种或多种金属的氧化物组成,该方法包括:
(a)任选的将一种剥离材料层施用到基底上,
(b)将含有一种或多种期望的金属氧化物的一种或多种前体的 组合物施用到所述的剥离层上,或者直接施用到不带有剥离材料层的 基底上,
(c)使该一种或多种期望的金属氧化物的一种或多种前体经受 微波辐射来在基底上或者在剥离材料层上形成金属氧化物层;和
(d)从基底上分离所形成的金属氧化物层来作为平行平面结构。
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