[发明专利]封孔处理剂、喷镀被膜包覆构件及轴承有效
申请号: | 200780013142.X | 申请日: | 2007-04-12 |
公开(公告)号: | CN101421436A | 公开(公告)日: | 2009-04-29 |
发明(设计)人: | 村上和丰 | 申请(专利权)人: | NTN株式会社 |
主分类号: | C23C26/00 | 分类号: | C23C26/00;C23C4/18 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 邓 毅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 喷镀被膜包覆 构件 轴承 | ||
1.一种封孔处理剂,其是含有含环氧基成分和固化剂、不含有含聚 合性乙烯基溶剂的喷镀被膜的封孔处理剂,其特征在于,
上述含环氧基成分是以1分子中所含的环氧基的个数为3个以上的聚 缩水甘油醚化合物为必需成分、含有选自1分子中所含的环氧基的个数为 2个的亚烷基二缩水甘油醚化合物及1分子中所含的环氧基的个数为2 个的环状脂肪族二环氧化合物中的至少1个的混合物,除上述固化剂之 外,相对于上述含环氧基成分全部,聚缩水甘油醚化合物的配合量为 10~80重量%,
相对于上述含环氧基成分全部,上述亚烷基二缩水甘油醚化合物及/ 或上述环状脂肪族二环氧化合物的配合比例为10~90重量%,
上述的环状脂肪族二环氧化合物是在形成脂环式化合物的环的碳 原子中相邻的2个碳原子形成环氧乙烷环的脂环式环氧化合物,
上述聚缩水甘油醚化合物和上述环状脂肪族二环氧化合物,为在其 分子内不含有环氧乙烷环裂解而形成的重复单元的化合物,
上述固化剂为选自酸酐类、胺化合物类、及咪唑类的一种。
2.如权利要求1所述的封孔处理剂,其特征在于,上述固化剂是含 有二乙基戊二酸酐的固化剂,酸酐的配合量,相对于环氧基1当量,为 0.80~0.95当量。
3.如权利要求1所述的封孔处理剂,其特征在于,上述含环氧基成 分还含有1分子中所含的环氧基的个数为1个的单缩水甘油醚化合物,该 单缩水甘油醚化合物的配合量,相对于上述含环氧基成分全部为大于0 且50重量%以下。
4.如权利要求1所述的封孔处理剂,其特征在于,上述封孔处理剂 将每1g该封孔处理剂所含的环氧基设定在3.0mmol~4.0mmol的范围。
5.如权利要求1所述的封孔处理剂,其特征在于,上述固化剂为含 有酸酐的固化剂,酸酐的配合量,相对于环氧基1当量,为0.80~0.95 当量。
6.如权利要求1所述的封孔处理剂,其特征在于,上述封孔处理剂 固化后密度比固化前密度小。
7.一种喷镀被膜包覆构件,其是在金属基材上具有用封孔处理剂封 孔处理了的喷镀被膜的喷镀被膜包覆构件,其特征在于,上述封孔处理剂 为权利要求1所述的封孔处理剂。
8.一种轴承,其特征在于,在轴承构成构件表面形成有喷镀被膜包 覆构件的轴承中,上述喷镀被膜包覆构件为权利要求7所述的喷镀被膜包 覆构件。
9.一种喷镀被膜包覆构件,其是在金属基材上具有用封孔处理剂封 孔处理了的喷镀被膜的喷镀被膜包覆构件,其特征在于,上述封孔处理剂 为权利要求2~6任一项所述的封孔处理剂。
10.一种轴承,其特征在于,在轴承构成构件表面形成有喷镀被膜包 覆构件的轴承中,上述喷镀被膜包覆构件为权利要求9所述的喷镀被膜包 覆构件。
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