[发明专利]膜生长期间的特性改变无效
申请号: | 200780013589.7 | 申请日: | 2007-02-16 |
公开(公告)号: | CN101501243A | 公开(公告)日: | 2009-08-05 |
发明(设计)人: | W·J·沙夫;陈晓东 | 申请(专利权)人: | 康乃尔研究基金会有限公司 |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 钟守期;唐铁军 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 生长 期间 特性 改变 | ||
1.一种方法,包括
使用分子束外延或化学气相沉积法生长一个层;并在所述层正在形 成时将其选定部分曝光于辐射下。
2.权利要求1的方法,其中所述层包括一种III氮化物、半导体、 塑料或陶瓷。
3.权利要求1的方法,其中所述层包括InGaN。
4.权利要求1的方法,其中一个激光束被用于将所述层的选定部分 曝光。
5.权利要求1的方法,还包括控制扫描镜以通过激光进行局部曝光。
6.权利要求5的方法,其中所述层包括InxGa1-xN。
7.权利要求5的方法,其中所述扫描镜提供对所述层上的曝光光斑 的x,y控制。
8.权利要求7的方法,其中曝光光斑的速度可在约5至256410mm/ 秒的范围内改变。
9.权利要求7的方法,其中所述层上的所述曝光光斑的尺寸约为50 μm或更小。
10.权利要求5的方法,其中所述激光为脉冲激光。
11.权利要求10的方法,其中所述激光为飞秒范围内的脉冲激光。
12.权利要求5的方法,其中所述激光的发射能大于正被形成的材 料的带隙。
13.权利要求1的方法,其中所述曝光部分具有下述特征中的一个 或多个,所述特征包括变化的摩尔分数、灰度形貌、光致发光和光学非 线性。
14.一种方法,包括:
生长一个层;以及
并在所述层正在形成时将其选定部分曝光于激光束光斑下。
15.权利要求14的方法,其中正被形成的层上的所述激光束光斑的 位置被控制,以在层上产生需要的三维形貌。
16.权利要求15的方法,其中使用一组反射镜来控制激光束光斑的 位置。
17.权利要求16的方法,其中所述反射镜将激光束由腔的外部通过 腔的观察端口引入。
18.一种用于在生长腔内生长在基底上的材料层上产生三维特征的 系统,该系统包括:
一个激光源,用于提供激光束;
一个透镜,用于将所述激光束在生长层上聚焦成一个光斑;以及
一组反射镜,它们被放置以从激光源接收激光束并用于控制激光束 光斑在正在生长的层上的位置。
19.权利要求18的系统,其中所述系统可被放置在生长腔的外部, 以将激光束通过一个窗口定向至生长层上。
20.权利要求18的系统,其中所述激光源包括光导纤维,并且所述 系统还包括连接至光导纤维上的用于提供激光束的扩束器。
21.权利要求20的系统,其中所述透镜为一个放置在所述扩束器和 所述透镜之间的F-Theta透镜。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的