[发明专利]产品流的处理方法

说明书

本发明涉及产品流，更具体是来自自热裂化法的产品流的处理方 法。

自热裂化是一种制造烯烃的途径，其中将烃进料与氧混合并通过 自热裂化催化剂。在催化剂表面上引发燃烧，并原位生成将反应物升 至加工温度和进行吸热裂化法所需的热。例如在EP332289B、EP 529793B、EP709446A和WO00/14035中描述了这种方法。

自热裂化法通常产生包含一种或多种烯烃、氢、一氧化碳和二氧 化碳的气态产品流。此外，产品流通常也包含链烷如甲烷，水、二烯 如丁二烯，乙炔、含氧物(oxygenates)和芳族化合物，如萘和甲苯。

含氧物包括含羰基的化合物，例如羧酸、酯、醛和酮，尤其是醛。 通常要求在需要对来自自热裂化的产品流施加的分离和提纯步骤的 相对早期，例如在将产物烯烃与如氢、一氧化碳和二氧化碳的组分分 离之前去除这类含氧物。尽管通过使产品流与洗水接触可以实现一定 的含氧物去除，但单独的水对含氧物去除不是特别有效。

使用亚硫酸氢钠经由络合物形成分离含氧物如醛也是本领域中 公知的，并描述在例如US3,816,478、US5,157,205或US6,037,516 中。但是，在将此用于也含二氧化碳的气流时存在必须克服的问题。

具体而言，亚硫酸氢盐溶液固有地提供二氧化硫的蒸气压。二氧 化硫的蒸气压在众多因素中尤其取决于溶液的pH值。在高pH值下， 二氧化硫的蒸气压最小化，但在要处理的气流中存在二氧化碳时，高 pH值可能导致二氧化碳在亚硫酸氢盐溶液中形成碳酸盐或碳酸氢盐。 尽管可以通过在较低pH值下操作来避免碳酸盐形成，但随着溶液pH 值降低，蒸气相中二氧化硫的蒸气压会升高。

二氧化硫可能损害产品流的处理在传统上所需的下游加工步骤， 例如二氧化碳的去除，和(在存在的情况下)用于除氧或除乙炔的任 何催化法。

因此，当需要从也含二氧化碳的气流中去除含氧物时，需要亚硫 酸氢盐的替代物。

现在已经发现，可以使用特定的含氮物类去除含氧物。

相应地，在第一方面中，本发明提供了产品流的处理方法，所述 产品流包含一种或多种烯烃、氢、一氧化碳、二氧化碳和一种或多种 含氧物，所述方法包括使产品流与至少一种选自式

(1)H₂N-OR₁和

(2)H₂N-NR₂R₃

所示的那些的化合物接触，

其中：

R₁、R₂和R₃可以各自独立地选自H和含碳的取代基。

不希望受制于理论，但相信，式(1)和式(2)的化合物的关键 性质是存在“H₂N-X”，其中X是O或N，其提供了反应性氢，反应性 氢与任何含羰基的含氧物的羰基迅速反应以去除水并形成含有 “C＝N-X”基团(C和X连接到未显示的其它基团上)的相应化合物。

但是，对于(1)，化合物优选为羟胺(R₁是H)或烷氧基胺(R₁是烷基)，例如甲氧基胺、乙氧基胺或丙氧基胺。最优选地，R₁是H， 且(1)是羟胺。

对于(2)，该化合物是肼或取代肼。

R₂和R₃优选独立地选自H、烷基、芳基和羰游基。在存在时， 优选的羰游基是式C(O)NR₄R₅的那些，其中R₄是H或烷基且R₅是H、 烷基或NH₂。当R₂、R₃、R₄或R₅的一个或多个是烷基时，其优选是 甲基、乙基或丙基。在R₂和R₃任一或两者是芳基时，其优选是苯基。

最优选地，R₂是H。最优选的式(2)的化合物是肼(R₂和R₃＝H)、 氨基脲(R₂＝H且R₃＝C(O)NH₂)和碳酰肼(R₂＝H且R₃＝ C(O)NHNH₂)。