[发明专利]涂覆方法

权利要求书

1.用于物体一个表面或多个表面涂覆的激光烧蚀方法，特征在于 该方法包括：通过使用高质量等离子体对物体进行涂覆，通过冷加工 激光从靶上烧蚀材料，所述靶与基体、即要涂覆的物体间的距离为 0.1-10mm，使得每mm²涂覆的面层含有少于一个的针孔，其中，所述 冷加工激光指皮秒、飞秒或阿秒激光。

2.根据权利要求1的方法，特征在于通过使用高质量等离子体对 物体进行涂覆，基体是金属、金属化合物、玻璃、石材、陶瓷材料、 合成聚合物、半合成聚合物、天然存在的聚合物、复合材料、无机的 或有机的单体或低聚物材料。

3.根据权利要求1的方法，特征在于通过使用高质量等离子体对 物体进行涂覆，基体是纸。

4.根据权利要求1的方法，特征在于通过使用高质量等离子体对 物体进行涂覆，基体是纸板。

5.根据权利要求1-4任一项的方法，特征在于通过使用高质量等 离子体对物体进行涂覆，靶是金属、金属化合物、玻璃、石材、陶瓷 材料、合成聚合物、半合成聚合物、天然存在的聚合物、复合材料、 无机的或有机的单体或低聚物材料。

6.根据权利要求1-4任一项的方法，特征在于通过使用高质量等 离子体对物体进行涂覆，使用脉冲激光进行激光烧蚀。

7.根据权利要求5的方法，特征在于通过使用高质量等离子体对 物体进行涂覆，使用脉冲激光进行激光烧蚀。

8.根据权利要求1的方法，特征在于形成涂覆的面层，使得每 cm²涂覆的面层少于一个针孔。

9.根据权利要求1的方法，特征在于形成涂覆的面层，使得在涂 覆区根本没有针孔。

10.根据权利要求1的方法，特征在于形成涂覆的面层，使得形 成面层最初的50％，在形成的面层上没有形成任何直径超过1000nm的 颗粒。

11.根据权利要求1的方法，特征在于形成涂覆的面层，使得形 成面层最初的50％，在形成的面层上没有尺寸超过100nm的颗粒。

12.根据权利要求1的方法，特征在于形成涂覆的面层，使得形 成面层最初的50％，在形成的面层上没有尺寸超过30nm的颗粒。

13.根据权利要求1的方法，特征在于使用脉冲冷加工激光通过 烧蚀靶对要涂覆的物体即基体进行涂覆，使得在涂覆物体上要形成的 面层的最大粗糙度是±100nm，所述最大粗糙度是使用原子力显微镜在 1平方微米区域测量的。

14.根据权利要求1的方法，特征在于通过使用高质量等离子体 对物体进行涂覆，激光束通过涡轮扫描器照射到靶上。

15.根据权利要求14的方法，特征在于通过使用高质量等离子体 对物体进行涂覆，对靶进行扫描的宽度为10mm-800mm。

16.根据权利要求14的方法，特征在于通过使用高质量等离子体 对物体进行涂覆，对靶进行扫描的宽度为100nm-400nm。

17.根据权利要求14的方法，特征在于通过使用高质量等离子体 对物体进行涂覆，对靶进行扫描的宽度为150nm-300nm。

18.根据权利要求1的方法，特征在于通过使用高质量等离子体 对物体进行涂覆，基体在使用激光烧蚀从一个或几个靶上蒸发的等离 子体材料羽辉中移动。

19.根据权利要求1的方法，特征在于通过使用高质量等离子体 对物体进行涂覆，靶和基体间距离在烧蚀过程中基本上保持恒定。

20.根据权利要求1的方法，特征在于通过使用高质量等离子体 对物体进行涂覆，涂覆的面层由从几个靶同时烧蚀的材料构成。

21.根据权利要求1或20的方法，特征在于通过使用高质量等离 子体对物体进行涂覆，通过在烧蚀材料形成的等离子体材料羽辉中引 入活性材料形成要涂覆的面层，所述活性材料与等离子体材料羽辉的 烧蚀材料进行反应，从而在基体上形成一种或多种化合物涂层。