[发明专利]用于检测可移动物体的移动的检测电路无效
申请号: | 200780014391.0 | 申请日: | 2007-04-17 |
公开(公告)号: | CN101438223A | 公开(公告)日: | 2009-05-20 |
发明(设计)人: | K·范莱 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/03 | 分类号: | G06F3/03 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 景军平;谭祐祥 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 检测 移动 物体 电路 | ||
1.一种用于检测可移动物体(2)的移动的检测电路(1),所述检测电路(1)包括:
检测器(100,200),用于检测可移动物体(2)的移动,该检测器(100,200)包括检测单元(101-136,201-204),用于检测位于该检测单元(101-136,201-204)的位置处的来源于源(4)的光点(3),位于该位置处的光点(3)取决于所述移动;以及
参考检测器(300),用于补偿老化变化和/或过程变化,参考检测器(300)包括参考检测单元(301-304),参考检测单元(301-304)用于标定该检测单元(101-136,201-204)。
2.如权利要求1所述的检测电路(1),其特征在于:所述检测器(100,200)包括第一检测器(100),所述第一检测器(100)用于检测所述可移动物体(2)在检测电路(1)的平面内的第一方向的第一移动,所述检测单元(101-136,201-204)包括第一检测单元(101-136),所述第一检测单元(101-136)用于检测在所述第一检测单元(101-136)的位置处的光点(3)的存在或缺失,所述光点(3)的位置取决于所述第一移动。
3.如权利要求2所述的检测电路(1),其特征在于:所述第一检测器(100)部分地位于依赖于可移动物体(2)的位置的光点(3)内,而参考检测器(300)则完全地位于独立于可移动物体(2)的位置的光点(3)内。
4.如权利要求1所述的检测电路(1),其特征在于:所述检测器(100,200)包括第二检测器(200),所述第二检测器(200)用于检测所述可移动物体(2)在第二方向的第二移动,所述第二方向垂直于所述检测电路(1)的平面,所述光点(3)的强度取决于所述第二移动,所述检测单元(101-136,201-204)包括第二检测单元(201-204),所述第二检测单元(201-204)用于检测在所述第二检测单元(201-204)的位置处的所述光点(3)的第一强度或第二强度,所述第一强度和所述第二强度是不等于零的不同强度。。
5.如权利要求4所述的检测电路(1),其特征在于:所述第二检测器(200)完全位于独立于可移动物体(2)的位置的光点(3)内,而参考检测器(300)完全位于独立于可移动物体(2)的位置的光点(3)之外。
6.如权利要求1所述的检测电路(1),其特征在于:还包括:
源(4),所述源(4)用于生成光信号,所述可移动物体(2)包括用于将所述光信号反射到所述检测电路(1)的反射体(5),所述光点(3)从所述反射的光信号产生。
7.如权利要求1所述的检测电路(1),其特征在于:所述检测单元(101-136,201-204)包括用于生成光电元信号的光电元(420),所述光电元(420)耦合到用于将所述光电元信号数字化的晶体管(421),而所述参考检测单元(301-304)包括用于生成参考光电元信号的参考光电元(410),所述参考光电元(410)与被耦合到该晶体管(421)的参考晶体管(411)耦合。
8.如权利要求1所述的检测电路(1),其特征在于:所述检测电路(1)是集成检测电路,所述集成检测电路以薄膜多晶硅技术、单晶硅衬底技术、发光二极管技术和有机发光二极管技术中的至少一种技术为基础。
9.一种检测装置(10),所述检测装置(10)包括如权利要求1所述的检测电路(1),还包括所述可移动物体(2)。
10.如权利要求9所述的检测装置(10),其特征在于:所述可移动物体(2)的移动由倾斜所述可移动物体(2)或由向下推动所述可移动物体(2)所导致。
11.一种设备(20),所述设备(20)包括如权利要求1所述的检测电路(1),还包括人机界面,所述人机界面包括所述可移动物体(2)。
12.如权利要求11所述的设备(20),其特征在于:所述人机界面还包括显示器(21),所述显示器(21)是包括所述检测电路(1)的集成显示器。
13.一种用于经由检测电路(1)检测可移动物体(2)的移动的方法,所述方法包括:
经由检测器(100,200)的第一检测步骤,所述第一检测步骤检测所述可移动物体(2)的移动,所述第一检测步骤包括在所述检测单元(101-136,201-204)的位置处经由检测单元(101-136,201-204)检测来源于源(4)的光点(3)的第一分步骤,所述光点(3)的位置取决于所述移动,以及
经由参考检测器(300)的第二检测步骤,用于补偿老化变化和/或过程变化,所述第二检测步骤包括经由参考检测单元(301-304)来标定所述检测单元(101-136,201-204)的第二分步骤。
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