[发明专利]判定光谱中铜浓度的方法无效
申请号: | 200780014741.3 | 申请日: | 2007-12-05 |
公开(公告)号: | CN101432616A | 公开(公告)日: | 2009-05-13 |
发明(设计)人: | 多米尼克·J·本文格努;杰弗里·朱恩·大卫;博古斯劳·A·司维德克;及明·章;哈利·Q·李 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | G01N21/55 | 分类号: | G01N21/55;G01B11/06;G01N21/84 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 赵 飞;南 霆 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 判定 光谱 浓度 方法 | ||
1.一种判定衬底上包括非电介质材料的区域的量的方法,该方法至少包含:
取得来自所述衬底的表面的反射光的测量光谱;
使所述测量光谱与来自100%非电介质材料的反射光的参考光谱彼此关联,以得到相关性;以及
将所述相关性归一化,以获得所述区域的所述非电介质材料的浓度。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述非电介质材料为金属。
3.如权利要求2所述的方法,其中所述非电介质材料为铜。
4.如权利要求1所述的方法,其中所述表面包括所述非电介质材料的区域和电介质材料的区域。
5.如权利要求4所述的方法,其中所述电介质材料为阻挡层。
6.如权利要求1所述的方法,其中取得所述测量光谱是在抛光该衬底时进行。
7.如权利要求6所述的方法,其中取得所述测量光谱包括引导光束至所述衬底的所述表面、以及接收所述光束的反射。
8.如权利要求7所述的方法,其中取得所述测量光谱是在所述衬底相对所述光束移动时进行。
9.一种将从含有电介质材料与非电介质材料的衬底的区域的光谱转换成只具该电介质材料的光谱的方法,该方法至少包含:
取得来自所述衬底的表面的反射光的测量光谱;
使所述测量光谱与来自100%非电介质材料的反射光的参考光谱彼此关联,以得到相关性;
将所述相关性归一化,以获得所述区域的所述非电介质材料的浓度;以及
减去该测量光谱中的非电介质贡献。
10.如权利要求9所述的方法,其中减去所述非电介质贡献包括将所述参考光谱乘以所述非电介质材料的所述浓度而获得缩减参考光谱,以及从所述测量光谱中减去所述缩减参考光谱而获得电介质元素光谱。
11.如权利要求10所述的方法,其还包将所述电介质元素光谱除以所述电介质材料的浓度,藉以判定电介质材料光谱。
12.一种判定抛光终点的方法,该方法至少包含:
在抛光程序期间,取得来自衬底的表面的反射光的测量光谱;
使所述测量光谱与来自100%非电介质材料的反射光的参考光谱彼此关联,以得到相关性;
将所述相关性归一化,以获得区域的所述非电介质材料的浓度;
得到电介质材料光谱,包括减去所述测量光谱中的非电介质贡献;以及
比较所述电介质材料光谱和参考光谱,以判断抛光终点。
13.如权利要求12所述的方法,其中取得所述测量光谱是在所述衬底相对于用来接收该测量光谱的传感器移动时进行。
14.如权利要求12所述的方法,其中所述衬底为半导体衬底,所述非电介质材料为铜,且所述电介质材料为氧化物。
15.如权利要求12所述的方法,还包含在所述抛光终点时停止抛光程序。
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